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TN
Presentamos nuestro recubridor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiple para deposición de Ti y Au para contactos.Este equipo de última generación está diseñado para proporcionar un rendimiento y precisión excepcionales en el proceso de deposición.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío está construido con la última tecnología, enfocándose principalmente en la evaporación de fuentes metálicas/orgánicas.Esto lo convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones, incluida la preparación de elementos metálicos, óxidos, dieléctricos y películas semiconductoras.
Con sus características y capacidades avanzadas, este recubridor garantiza un ambiente de alto vacío, lo que permite una deposición precisa y controlada de titanio (Ti) y oro (Au) para contactos.El resultado es un recubrimiento uniforme y confiable, esencial para lograr un rendimiento óptimo en dispositivos electrónicos y otras industrias relacionadas.
Este equipo de calidad profesional está diseñado para satisfacer las demandas de laboratorios de investigación, universidades e instalaciones industriales.Su construcción robusta garantiza durabilidad y longevidad, asegurando años de servicio confiable.
Además, nuestro revestidor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiples cuenta con controles fáciles de usar y una interfaz intuitiva, lo que permite a los operadores configurar parámetros y monitorear fácilmente el proceso de deposición.Esto mejora la productividad y la eficiencia, ahorrando tiempo y recursos valiosos.
Además de su rendimiento excepcional, esta recubridora cumple con los más altos estándares de seguridad, proporcionando un entorno seguro para los operadores durante todo el proceso de deposición.
Invierta en nuestro recubridor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiple para deposición de Ti y Au para contactos, y experimente el pináculo de la precisión y confiabilidad en la deposición de películas delgadas.Confíe en nuestro equipo de calidad profesional para satisfacer sus necesidades de investigación y producción con la máxima eficiencia y precisión.
Parámetros técnicos:
Muestra escenario | Tamaño | máx. soporte de muestra de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 70mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x2 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Día. 300 mm x 400 mm | Observación ventana | Frente φ100mm con hoja de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Apertura método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal instrumento de medición de espesor de película vibratoria, película multicanal opcional controlador de espesor | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Doble bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | Turbo bomba molecular | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Molecular bomba 600L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | CA 220 V 50/60 Hz | |
Bombeo tasa | Giratorio bomba de paletas: 1.1L/S | |||
Medidor de corriente | Uno Medidor de flujo másico de vía 500sccm gas Ar | |||
Control Sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otro | Suministrar Voltaje | CA 380 V, 50 Hz. | Máquina tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 5kW | Máquina peso | 350 kilos | |
Presentamos nuestro recubridor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiple para deposición de Ti y Au para contactos.Este equipo de última generación está diseñado para proporcionar un rendimiento y precisión excepcionales en el proceso de deposición.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío está construido con la última tecnología, enfocándose principalmente en la evaporación de fuentes metálicas/orgánicas.Esto lo convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones, incluida la preparación de elementos metálicos, óxidos, dieléctricos y películas semiconductoras.
Con sus características y capacidades avanzadas, este recubridor garantiza un ambiente de alto vacío, lo que permite una deposición precisa y controlada de titanio (Ti) y oro (Au) para contactos.El resultado es un recubrimiento uniforme y confiable, esencial para lograr un rendimiento óptimo en dispositivos electrónicos y otras industrias relacionadas.
Este equipo de calidad profesional está diseñado para satisfacer las demandas de laboratorios de investigación, universidades e instalaciones industriales.Su construcción robusta garantiza durabilidad y longevidad, asegurando años de servicio confiable.
Además, nuestro revestidor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiples cuenta con controles fáciles de usar y una interfaz intuitiva, lo que permite a los operadores configurar parámetros y monitorear fácilmente el proceso de deposición.Esto mejora la productividad y la eficiencia, ahorrando tiempo y recursos valiosos.
Además de su rendimiento excepcional, esta recubridora cumple con los más altos estándares de seguridad, proporcionando un entorno seguro para los operadores durante todo el proceso de deposición.
Invierta en nuestro recubridor de evaporación de alto vacío con fuentes de evaporación múltiple para deposición de Ti y Au para contactos, y experimente el pináculo de la precisión y confiabilidad en la deposición de películas delgadas.Confíe en nuestro equipo de calidad profesional para satisfacer sus necesidades de investigación y producción con la máxima eficiencia y precisión.
Parámetros técnicos:
Muestra escenario | Tamaño | máx. soporte de muestra de φ150 mm | Altura | Adjustable arriba y abajo 70mm |
Evaporación fuente | Cantidad | Tungsteno Barco x2 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Día. 300 mm x 400 mm | Observación ventana | Frente φ100mm con hoja de sombreado |
Cámara material | 304 acero inoxidable | Apertura método | Frente puerta abierta | |
Película control de espesor | Cristal instrumento de medición de espesor de película vibratoria, película multicanal opcional controlador de espesor | |||
Vacío sistema | Apoyo bomba | Doble bomba de paletas rotativa de etapa | Bombeo puerto | KF16 |
Secundario bomba | Turbo bomba molecular | Bombeo puerto | CF160 | |
Vacío medición | Resistencia + ionización Compuesto indicador de vacio | Escape tasa | Mecánico bomba 1.1L/s Molecular bomba 600L/s | |
Último vacío | 1.0E-5Pa | Fuerza suministrar | CA 220 V 50/60 Hz | |
Bombeo tasa | Giratorio bomba de paletas: 1.1L/S | |||
Medidor de corriente | Uno Medidor de flujo másico de vía 500sccm gas Ar | |||
Control Sistema | SOCIEDAD ANÓNIMA Control automático Operación Interfaz: pantalla táctil + panel de operación | |||
Otro | Suministrar Voltaje | CA 380 V, 50 Hz. | Máquina tamaño | 1000 mm x 800 mm x 1500 mm |
Total fuerza | 5kW | Máquina peso | 350 kilos | |
