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TN-EVP180G-2S-HV
TN
Presentamos nuestra recubridora por evaporación de alto vacío de última generación, diseñada para satisfacer las exigentes necesidades de diversas industrias.Este equipo de nivel profesional está diseñado específicamente para el recubrimiento evaporativo preciso de películas delgadas, lo que lo convierte en una opción ideal tanto para materiales metálicos como para ciertos materiales orgánicos.Con sus capacidades de alto vacío, nuestro Recubridor por Evaporación garantiza un rendimiento y una eficiencia excepcionales en el proceso de deposición.Permite la evaporación controlada de una amplia gama de metales, lo que permite la creación de películas delgadas con adherencia y uniformidad superiores.Además, esta avanzada tecnología permite la deposición de materiales orgánicos seleccionados, ampliando el alcance de aplicaciones y posibilidades.Equipada con características de vanguardia, nuestra recubridora por evaporación de alto vacío garantiza resultados confiables y reproducibles.El sofisticado sistema de vacío garantiza un entorno impecable para el proceso de deposición, minimizando las impurezas y mejorando la calidad de las películas recubiertas.El mecanismo preciso de control de temperatura permite tasas de evaporación precisas, lo que garantiza un espesor y una consistencia óptimos de la película.Diseñado con la máxima profesionalidad, nuestro Recubridor por Evaporación cuenta con una interfaz fácil de usar que simplifica la operación y mejora la productividad.Los controles intuitivos y el sistema de monitoreo integral proporcionan datos en tiempo real, lo que permite una gestión eficiente de los procesos y la resolución de problemas.La construcción robusta y los materiales de alta calidad utilizados en su fabricación garantizan durabilidad y longevidad, lo que la convierte en una inversión valiosa para cualquier instalación de investigación o producción.Ya sea que esté en el campo de la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos o ingeniería de superficies, nuestro recubridor por evaporación de alto vacío es la solución perfecta para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Experimente un rendimiento, confiabilidad y versatilidad incomparables con nuestra tecnología avanzada.Aumente sus capacidades de recubrimiento y logre resultados superiores con nuestro recubridor por evaporación líder en la industria.
Parámetros técnicos:
Aporte fuerza | C.A. 220 V, monofásico, 50 Hz |
Evaporación actual | 100A |
Electrode Voltaje | 10V |
Evaporación fuente | Cantidad: 2 Tungsteno cesta de filamento × 2 piezas, bote de tungsteno × 2 piezas |
Evaporador deflector | Sí |
Muestra poseedor | Ajuste superior Diámetro: ø65mm Giratorio velocidad: 0-20 rpm El la distancia entre el portamuestras y la fuente de evaporación es ajustable |
Vacío cámara | Interno procesamiento de paredes: pulido electrolítico Cámara dimensión: ~φ180mm×H210mm Material de la cámara: acero inoxidable 304 Modo de apertura: apertura superior |
Temperatura medición | Termopar tipo B |
Pantalla de visualización | pantalla táctil de 7 pulgadas |
Regulación actual | Configuración de pantalla táctil, rango 0~100A |
Se requiere vacío | Bomba rotativa de paletas o grupo de bombas moleculares se puede seleccionar según sea necesario.(Cargos adicionales) |
Interfaz de extracción | KF25 |
Interfaz de entrada | Ajuste fino del orificio redondo de 6 mm de diámetro válvula |
Monitor de espesor de película | Precisión: 0,1Ã Velocidad de medición: 100mS-1S ajustable Rango de medición: 500 000Ã (aluminio) Cristal sensor estándar: 6MHz |
Presentamos nuestra recubridora por evaporación de alto vacío de última generación, diseñada para satisfacer las exigentes necesidades de diversas industrias.Este equipo de nivel profesional está diseñado específicamente para el recubrimiento evaporativo preciso de películas delgadas, lo que lo convierte en una opción ideal tanto para materiales metálicos como para ciertos materiales orgánicos.Con sus capacidades de alto vacío, nuestro Recubridor por Evaporación garantiza un rendimiento y una eficiencia excepcionales en el proceso de deposición.Permite la evaporación controlada de una amplia gama de metales, lo que permite la creación de películas delgadas con adherencia y uniformidad superiores.Además, esta avanzada tecnología permite la deposición de materiales orgánicos seleccionados, ampliando el alcance de aplicaciones y posibilidades.Equipada con características de vanguardia, nuestra recubridora por evaporación de alto vacío garantiza resultados confiables y reproducibles.El sofisticado sistema de vacío garantiza un entorno impecable para el proceso de deposición, minimizando las impurezas y mejorando la calidad de las películas recubiertas.El mecanismo preciso de control de temperatura permite tasas de evaporación precisas, lo que garantiza un espesor y una consistencia óptimos de la película.Diseñado con la máxima profesionalidad, nuestro Recubridor por Evaporación cuenta con una interfaz fácil de usar que simplifica la operación y mejora la productividad.Los controles intuitivos y el sistema de monitoreo integral proporcionan datos en tiempo real, lo que permite una gestión eficiente de los procesos y la resolución de problemas.La construcción robusta y los materiales de alta calidad utilizados en su fabricación garantizan durabilidad y longevidad, lo que la convierte en una inversión valiosa para cualquier instalación de investigación o producción.Ya sea que esté en el campo de la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos o ingeniería de superficies, nuestro recubridor por evaporación de alto vacío es la solución perfecta para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Experimente un rendimiento, confiabilidad y versatilidad incomparables con nuestra tecnología avanzada.Aumente sus capacidades de recubrimiento y logre resultados superiores con nuestro recubridor por evaporación líder en la industria.
Parámetros técnicos:
Aporte fuerza | C.A. 220 V, monofásico, 50 Hz |
Evaporación actual | 100A |
Electrode Voltaje | 10V |
Evaporación fuente | Cantidad: 2 Tungsteno cesta de filamento × 2 piezas, bote de tungsteno × 2 piezas |
Evaporador deflector | Sí |
Muestra poseedor | Ajuste superior Diámetro: ø65mm Giratorio velocidad: 0-20 rpm El la distancia entre el portamuestras y la fuente de evaporación es ajustable |
Vacío cámara | Interno procesamiento de paredes: pulido electrolítico Cámara dimensión: ~φ180mm×H210mm Material de la cámara: acero inoxidable 304 Modo de apertura: apertura superior |
Temperatura medición | Termopar tipo B |
Pantalla de visualización | pantalla táctil de 7 pulgadas |
Regulación actual | Configuración de pantalla táctil, rango 0~100A |
Se requiere vacío | Bomba rotativa de paletas o grupo de bombas moleculares se puede seleccionar según sea necesario.(Cargos adicionales) |
Interfaz de extracción | KF25 |
Interfaz de entrada | Ajuste fino del orificio redondo de 6 mm de diámetro válvula |
Monitor de espesor de película | Precisión: 0,1Ã Velocidad de medición: 100mS-1S ajustable Rango de medición: 500 000Ã (aluminio) Cristal sensor estándar: 6MHz |