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TN-EVP180G-2S-HV
TN
Presentamos nuestro recubridor por evaporación de alto vacío con dos fuentes para película de material orgánico.Este equipo de última generación está diseñado para profesionales que necesitan una solución confiable y eficiente para el recubrimiento evaporativo de películas delgadas.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío cuenta con un rendimiento excepcional, lo que le permite recubrir sin esfuerzo películas delgadas de la mayoría de los metales y algunos materiales orgánicos.Ya sea que trabaje con una amplia gama de metales o requiera la deposición de materiales orgánicos, nuestra recubridora está a la altura de la tarea.
Con su tecnología avanzada, esta recubridora garantiza un entorno de alto vacío, lo que garantiza una deposición de la película precisa y uniforme.Esto es crucial para lograr resultados óptimos en diversas aplicaciones, como óptica, electrónica e ingeniería de superficies.
Equipado con dos fuentes, nuestro recubridor por evaporación ofrece mayor versatilidad y flexibilidad.La capacidad de fuente dual le permite depositar simultáneamente diferentes materiales o aumentar la tasa de deposición de un solo material.Esta característica le permite optimizar su proceso de producción y maximizar la eficiencia.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío está meticulosamente diseñado para satisfacer las demandas de los profesionales de investigación y desarrollo, fabricación e instituciones académicas.Su construcción robusta y su interfaz fácil de usar facilitan su operación y mantenimiento, lo que garantiza una experiencia perfecta.
Invierta en nuestro recubridor por evaporación de alto vacío con dos fuentes para película de material orgánico y descubra un mundo de posibilidades en la deposición de películas delgadas.Experimente la eficiencia, precisión y confiabilidad que nuestra avanzada tecnología aporta a su trabajo.Confíe en nuestro equipo de calidad profesional para llevar sus proyectos a nuevas alturas.
Parámetros técnicos:
Aporte fuerza | C.A. 220 V, monofásico, 50 Hz |
Evaporación actual | 100A |
Electrode Voltaje | 10V |
Evaporación fuente | Cantidad: 2 Tungsteno cesta de filamento ×2 piezas, bote de tungsteno ×2 piezas |
Evaporador deflector | Sí |
Muestra poseedor | Ajuste superior Diámetro: ø65mm Giratorio velocidad: 0-20 rpm El la distancia entre el portamuestras y la fuente de evaporación es ajustable |
Vacío cámara | Interno procesamiento de paredes: pulido electrolítico Cámara dimensión: ~φ180mm×H210mm Material de la cámara: acero inoxidable 304 Modo de apertura: apertura superior |
Temperatura medición | Termopar tipo B |
Pantalla de visualización | pantalla táctil de 7 pulgadas |
Regulación actual | Configuración de pantalla táctil, rango 0~100A |
Se requiere vacío | Bomba rotativa de paletas o grupo de bombas moleculares se puede seleccionar según sea necesario.(Cargos adicionales) |
Interfaz de extracción | KF25 |
Interfaz de entrada | Ajuste fino del orificio redondo de 6 mm de diámetro válvula |
Monitor de espesor de película | Precisión: 0,1Ã Velocidad de medición: 100mS-1S ajustable Rango de medición: 500 000Ã (aluminio) Cristal sensor estándar: 6MHz |
Presentamos nuestro recubridor por evaporación de alto vacío con dos fuentes para película de material orgánico.Este equipo de última generación está diseñado para profesionales que necesitan una solución confiable y eficiente para el recubrimiento evaporativo de películas delgadas.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío cuenta con un rendimiento excepcional, lo que le permite recubrir sin esfuerzo películas delgadas de la mayoría de los metales y algunos materiales orgánicos.Ya sea que trabaje con una amplia gama de metales o requiera la deposición de materiales orgánicos, nuestra recubridora está a la altura de la tarea.
Con su tecnología avanzada, esta recubridora garantiza un entorno de alto vacío, lo que garantiza una deposición de la película precisa y uniforme.Esto es crucial para lograr resultados óptimos en diversas aplicaciones, como óptica, electrónica e ingeniería de superficies.
Equipado con dos fuentes, nuestro recubridor por evaporación ofrece mayor versatilidad y flexibilidad.La capacidad de fuente dual le permite depositar simultáneamente diferentes materiales o aumentar la tasa de deposición de un solo material.Esta característica le permite optimizar su proceso de producción y maximizar la eficiencia.
Nuestro recubridor por evaporación de alto vacío está meticulosamente diseñado para satisfacer las demandas de los profesionales de investigación y desarrollo, fabricación e instituciones académicas.Su construcción robusta y su interfaz fácil de usar facilitan su operación y mantenimiento, lo que garantiza una experiencia perfecta.
Invierta en nuestro recubridor por evaporación de alto vacío con dos fuentes para película de material orgánico y descubra un mundo de posibilidades en la deposición de películas delgadas.Experimente la eficiencia, precisión y confiabilidad que nuestra avanzada tecnología aporta a su trabajo.Confíe en nuestro equipo de calidad profesional para llevar sus proyectos a nuevas alturas.
Parámetros técnicos:
Aporte fuerza | C.A. 220 V, monofásico, 50 Hz |
Evaporación actual | 100A |
Electrode Voltaje | 10V |
Evaporación fuente | Cantidad: 2 Tungsteno cesta de filamento ×2 piezas, bote de tungsteno ×2 piezas |
Evaporador deflector | Sí |
Muestra poseedor | Ajuste superior Diámetro: ø65mm Giratorio velocidad: 0-20 rpm El la distancia entre el portamuestras y la fuente de evaporación es ajustable |
Vacío cámara | Interno procesamiento de paredes: pulido electrolítico Cámara dimensión: ~φ180mm×H210mm Material de la cámara: acero inoxidable 304 Modo de apertura: apertura superior |
Temperatura medición | Termopar tipo B |
Pantalla de visualización | pantalla táctil de 7 pulgadas |
Regulación actual | Configuración de pantalla táctil, rango 0~100A |
Se requiere vacío | Bomba rotativa de paletas o grupo de bombas moleculares se puede seleccionar según sea necesario.(Cargos adicionales) |
Interfaz de extracción | KF25 |
Interfaz de entrada | Ajuste fino del orificio redondo de 6 mm de diámetro válvula |
Monitor de espesor de película | Precisión: 0,1Ã Velocidad de medición: 100mS-1S ajustable Rango de medición: 500 000Ã (aluminio) Cristal sensor estándar: 6MHz |
