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Recubridor de evaporación térmica de doble fuente de escritorio con cavidad de acero inoxidable para películas ferroeléctricas

El recubridor de evaporación térmica de doble fuente de escritorio se puede utilizar para preparar diversas películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas, películas ópticas, microprocesamiento de micronanodispositivos, pretratamiento de muestras de microscopio electrónico, etc.
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  • TN-EVP170S-2S-A

  • TN

El recubridor por evaporación térmica de doble fuente de escritorio está equipado con dos fuentes, lo que permite la deposición simultánea de múltiples materiales.La cavidad de acero inoxidable garantiza un excelente rendimiento de vacío y evita la contaminación.


Esta recubridora ofrece un control preciso de la temperatura, lo que permite la deposición de películas con alta uniformidad y reproducibilidad.Tiene una interfaz fácil de usar, lo que facilita la configuración y el seguimiento de los parámetros de deposición.El diseño de escritorio lo hace compacto y ahorra espacio, ideal para laboratorios de investigación y producción a pequeña escala.


Con su avanzada tecnología de evaporación térmica, esta recubridora proporciona una solución confiable y eficiente para la deposición de películas delgadas.Es adecuado para una amplia gama de aplicaciones, incluidas la electrónica, la optoelectrónica, las células solares y la ingeniería de superficies.La construcción de alta calidad y los materiales duraderos garantizan un rendimiento duradero y requisitos mínimos de mantenimiento.


Invierta en este recubridor de evaporación térmica de doble fuente de escritorio con cavidad de acero inoxidable para mejorar sus capacidades de investigación y lograr una deposición precisa de películas delgadas.Su diseño profesional y sus características excepcionales lo convierten en un activo valioso para cualquier laboratorio o instalación de producción.

nombre del producto

Recubrimiento por evaporación térmica de escritorio de doble fuente

Modelo del Producto

TN-EVP170S-2S-A

Instalación   Condition

1 、 trabajando   temperatura ambiente: 25 ℃ ± 15 ℃, humedad:   55%Rh±10%Rh;

2 、 potencia del equipo   suministro: AC220V, 50 Hz, debe estar bien conectado a tierra;

3 、 potencia nominal: 2500 w;

4 、 Equipo para   gas: el equipo   La cámara debe llenarse con gas argón para su limpieza.El cliente debe   Prepare gas argón con una pureza ≥99,99%.

5、Tamaño de la mesa   Requisitos: 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga ≥ 70 kg;

6 、 La posición   debe estar bien ventilado y fresco.

Técnico   Indicadores

1 、  Número de   fuentes de evaporación: 2, cada fuente de evaporación está equipada con un deflector;

2 、 fuente de evaporación   voltaje: 10V

3 、 la corriente de evaporación   es continuamente ajustable de 0 a 100A

4 、 con dos botes de tungsteno,   dos cestas de tungsteno;

5 、  Acero inoxidable   mesa de muestra superior giratoria, diámetro de 60 mm;

6 、  La distancia   entre la plataforma de muestra y la fuente de evaporación es ajustable desde 60   a 100 mm;

7. La cavidad de vacío es un   Cavidad de acero inoxidable con un diámetro exterior de 170 mm.  un diámetro interior de 160 mm y una altura de   210 mm;

8 、 La interfaz de bombeo de aire   de la cámara de vacío es KF40;

9. La interfaz de entrada de aire es   Junta de doble virola de 1/4 de pulgada, ajuste fino de acero inoxidable   la válvula se proporciona de forma predeterminada para ajustar la entrada de aire;

10. La pantalla táctil es de 7 pulgadas.   pantalla táctil a color;

11 、 pulverización ajustable   actual, chisporroteo   se pueden configurar el valor de corriente de seguridad y el valor de vacío de seguridad;

12 、  Medida de seguridad:   sobrecorriente, el vacío es demasiado bajo y corta automáticamente la corriente de pulverización;

13 、 Vacío máximo: 1 Pa (doble etapa a juego)   bomba de paletas rotativas);

14. La medición del vacío es   Vacuómetro Paraná, el   el rango es: 1~105Pa

Aviso

1 、 Para dar pleno   jugar con el rendimiento de vacío de la cavidad, se recomienda utilizarlo   con grupo de bomba molecular

Accesorio opcional

Película  

monitor de espesor

1. Resolución del espesor de la película: 0,0136 Å (aluminio)

2 、 Precisión de la película   Espesor: ± 0,5%, depende del proceso.   condiciones, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, la temperatura y   densidad  

3. Velocidad de medición: 100 ms a 1 s por vez, el rango de medición puede ser   conjunto: 500000Å (aluminio)

4 、 Cristal sensor estándar: 6MHz

5 、 Adecuado para oblea   frecuencia: 6MHz  

adecuado para tamaño de oblea: Φ14 mm

brida de montaje: CF35

Otro   Accesorio

1 、 barco de tungsteno, tungsteno   cesta;

2 、 evaporación orgánica   Fuente (incluyendo fuente de calentamiento de barco de cuarzo y alambre de tungsteno)

3 、 Serie TN-CZK103 de alto rendimiento   conjunto de bomba molecular (incluido vacuómetro compuesto, rango de medición   10-5Pa~105Pa);

Conjunto de bomba molecular pequeña serie TN-GZK60 (incluido   vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa)

Paleta rotativa bipolar VRD-4   bomba aspiradora

4. Fuelles de vacío KF40;El   La longitud puede ser de 0,5 m, 1 mo 1,5 m.soporte de abrazadera KF40;

5 、 medidor de espesor de película   Oscilador de cristal;


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