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Recubridor de evaporación térmica de escritorio con cavidad de acero inoxidable para películas semiconductoras

El recubridor de evaporación térmica de escritorio con cavidad de acero inoxidable se puede utilizar para preparar diversas películas conductoras, películas semiconductoras, películas ferroeléctricas, películas ópticas, microprocesamiento de dispositivos micronano, pretratamiento de muestras de microscopio electrónico, etc.
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  • TN-EVP170S-1S-A

  • TN

Esta recubridora por evaporación térmica de escritorio.La cavidad de acero inoxidable garantiza un rendimiento de vacío excelente y una alta conductividad térmica, lo que permite una deposición de la película precisa y uniforme.


Esta recubridora por evaporación térmica de escritorio está equipada con sistemas avanzados de control de temperatura y monitoreo de la tasa de deposición, lo que garantiza un espesor de película preciso y repetible.También cuenta con una interfaz fácil de usar, lo que facilita la operación y el control del proceso de recubrimiento.


El diseño compacto de esta recubridora la hace adecuada para laboratorios y entornos de producción a pequeña escala.Requiere un espacio mínimo y se puede integrar fácilmente en configuraciones existentes.


Con sus capacidades versátiles, este recubridor de evaporación térmica de escritorio es una herramienta esencial para investigadores e ingenieros en el campo de la tecnología de película delgada.Ofrece deposición de película confiable y eficiente para una amplia gama de aplicaciones, incluidos dispositivos semiconductores, células solares, sensores y más.


Invierta en este recubridor por evaporación térmica de escritorio de calidad profesional con cavidad de acero inoxidable para lograr recubrimientos de película fina precisos y de alta calidad.Su construcción robusta, sus funciones avanzadas y su interfaz fácil de usar lo convierten en un activo valioso para cualquier instalación de producción o investigación de películas delgadas.

nombre del producto

Evaporación térmica de escritorio   Recubridor con cavidad de acero inoxidable.

Modelo del Producto

TN-EVP170S-1S-A

Instalación   Condition

1 、 ambiente de trabajo   temperatura: 25 ℃ ± 15 ℃, humedad: 55% Rh ± 10% Rh;

2. Fuente de alimentación del equipo: CA 220 V, 50 Hz, debe estar bien conectada a tierra;

3 、 potencia nominal: 1200 w;

4 、 Equipo para gas: La cámara del equipo.   Debe llenarse con gas argón para su limpieza.El cliente debe prepararse   Gas argón con pureza ≥99,99%.

·              5 、 Mesa   Requisitos de tamaño: 600 mm × 600 mm × 700 mm, rodamiento   capacidad ≥ 50 kg

·           ;

6、La posición debe ser   bien ventilado y refrigerado.

Técnico   Indicadores

1, fuente de evaporación   voltaje: 10V

2 、 la corriente de evaporación   es continuamente ajustable de 0 a 100A

3、 Con un barco de tungsteno, un   cesta de tungsteno;

4 、 muestra de acero inoxidable   mesa, diámetro de 60 mm;

5 、  La distancia   entre la plataforma de muestra y la fuente de evaporación es ajustable desde 60   a 100 mm;

6. La cavidad de vacío es un   Cavidad de acero inoxidable con un diámetro exterior de 170 mm.  un diámetro interior de 160 mm y una altura de   210 mm;

7 、 Está equipado con   ventana de observación de cuarzo con deflector, el tamaño es φ60 mm

8 、 La interfaz de bombeo de aire   de la cámara de vacío es KF40;

9. La interfaz de entrada de aire es   junta de doble virola de 1/4 de pulgada;

10. La pantalla táctil es de 7 pulgadas.   pantalla táctil a color;

11 、 pulverización ajustable   actual, chisporroteo   se pueden configurar el valor de corriente de seguridad y el valor de vacío de seguridad;

12 、  Medida de seguridad:   sobrecorriente, el vacío es demasiado bajo y corta automáticamente la corriente de pulverización;

13 、 Vacío máximo: 1 Pa (doble etapa a juego)   bomba de paletas rotativas);

14. La medición del vacío es   Vacuómetro Paraná, el   el rango es: 1~105Pa

Aviso

1 、 Para dar pleno   jugar con el rendimiento de vacío de la cavidad, se recomienda utilizarlo   con grupo de bomba molecular.

Accesorio opcional

Película  

monitor de espesor

1. Resolución del espesor de la película: 0,0136 Å (aluminio)

2 、 Precisión de la película   Espesor: ± 0,5%, depende del proceso.   condiciones, especialmente la posición del sensor, la tensión del material, la temperatura y   densidad  

3. Velocidad de medición: 100 ms a 1 s por vez, el rango de medición puede ser   conjunto: 500000Å (aluminio)

4 、 Cristal sensor estándar: 6MHz

5 、 Adecuado para oblea   frecuencia: 6MHz  

adecuado para tamaño de oblea: Φ14 mm

montaje   brida: CF35

Otro   Accesorio

1 、 barco de tungsteno, tungsteno   cesta;

2 、 evaporación orgánica   Fuente (incluyendo fuente de calentamiento de barco de cuarzo y alambre de tungsteno)

3 、 Serie CY-CZK103 alta   Conjunto de bomba molecular de alto rendimiento (incluido vacuómetro compuesto, medición   rango 10-5Pa~105Pa);

Conjunto de bomba molecular pequeña serie CY-GZK60 (incluido   vacuómetro compuesto, rango de medición 10-5Pa~102Pa)

Paleta rotativa bipolar VRD-4   bomba aspiradora

4. Fuelles de vacío KF40;El   La longitud puede ser de 0,5 m, 1 mo 1,5 m.soporte de abrazadera KF40;

5 、 medidor de espesor de película   Oscilador de cristal;



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