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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para ofrecer un rendimiento excepcional en diversas aplicaciones.
Centrándose en la precisión y la confiabilidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) son la opción ideal para procesos de pulverización catódica y evaporación.Estos objetivos están diseñados para proporcionar una deposición de película consistente y uniforme, asegurando resultados superiores en todo momento.
Elaborados con material de titanio de alta calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen una excelente conductividad térmica y una resistencia excepcional a la corrosión.Esto los hace muy resistentes y duraderos, lo que reduce la necesidad de reemplazos frecuentes y minimiza el tiempo de inactividad.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) están disponibles en una amplia gama de tamaños y configuraciones, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas de deposición.Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo o en producción industrial, nuestros objetivos se integrarán perfectamente en su configuración existente, mejorando la eficiencia y la productividad.
Con nuestro compromiso con la calidad, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) cumplirán con sus especificaciones exactas.Cada objetivo se somete a rigurosas pruebas y procedimientos de control de calidad para garantizar un rendimiento óptimo y el cumplimiento de los estándares de la industria.
Asóciese con nosotros y experimente la diferencia que nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) pueden marcar en sus procesos de deposición.Eleve sus proyectos a nuevas alturas con nuestros objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de primer nivel confiables y de alto rendimiento.
Especificaciones de titanio (Ti):
tipo de material | Titanio |
Símbolo | Ti |
Peso atomico | 47.867 |
Número atómico | 22 |
Color/Apariencia | Plateado Metálico |
Conductividad térmica | 21,9 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.660 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 8,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.5 |
Relación Z | 0.628 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con W/Ta/Mo; Desprende gas durante el primer calentamiento. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para ofrecer un rendimiento excepcional en diversas aplicaciones.
Centrándose en la precisión y la confiabilidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) son la opción ideal para procesos de pulverización catódica y evaporación.Estos objetivos están diseñados para proporcionar una deposición de película consistente y uniforme, asegurando resultados superiores en todo momento.
Elaborados con material de titanio de alta calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen una excelente conductividad térmica y una resistencia excepcional a la corrosión.Esto los hace muy resistentes y duraderos, lo que reduce la necesidad de reemplazos frecuentes y minimiza el tiempo de inactividad.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) están disponibles en una amplia gama de tamaños y configuraciones, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas de deposición.Ya sea que trabaje en investigación y desarrollo o en producción industrial, nuestros objetivos se integrarán perfectamente en su configuración existente, mejorando la eficiencia y la productividad.
Con nuestro compromiso con la calidad, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) cumplirán con sus especificaciones exactas.Cada objetivo se somete a rigurosas pruebas y procedimientos de control de calidad para garantizar un rendimiento óptimo y el cumplimiento de los estándares de la industria.
Asóciese con nosotros y experimente la diferencia que nuestros objetivos de pulverización catódica de titanio (Ti) pueden marcar en sus procesos de deposición.Eleve sus proyectos a nuevas alturas con nuestros objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de primer nivel confiables y de alto rendimiento.
Especificaciones de titanio (Ti):
tipo de material | Titanio |
Símbolo | Ti |
Peso atomico | 47.867 |
Número atómico | 22 |
Color/Apariencia | Plateado Metálico |
Conductividad térmica | 21,9 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.660 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 8,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.5 |
Relación Z | 0.628 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 50* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con W/Ta/Mo; Desprende gas durante el primer calentamiento. |
