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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC): la solución definitiva para todas sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Elaborados con la máxima precisión y tecnología de vanguardia, nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación u otros materiales de deposición, nuestra gama de productos lo tiene cubierto.
Con un tono de voz profesional, estamos muy orgullosos de ofrecerle objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) de la más alta calidad.Nuestros objetivos están diseñados meticulosamente para garantizar uniformidad, pureza y durabilidad, lo que le permite lograr resultados superiores en sus procesos de deposición de películas delgadas.
Equipados con una excelente estabilidad térmica y química, nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) garantizan un rendimiento óptimo incluso en los entornos más exigentes.La pureza excepcional de nuestros materiales garantiza impurezas mínimas, lo que da como resultado propiedades de película consistentes y una productividad mejorada.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) se fabrican utilizando técnicas de última generación, lo que garantiza dimensiones precisas, un excelente acabado superficial y una utilización excepcional del objetivo.Esto, a su vez, se traduce en una reducción del tiempo de inactividad, una mayor eficiencia del proceso y, en última instancia, un ahorro de costos para sus operaciones.
Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, recubrimientos ópticos o investigación y desarrollo, nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) son la opción ideal para sus necesidades de deposición.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para proporcionarle materiales de la más alta calidad, respaldados por una atención al cliente incomparable.
Invierta hoy en nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) y descubra el potencial para una deposición superior de películas delgadas.Experimente la diferencia que nuestros productos de calidad profesional pueden marcar para mejorar sus procesos y lograr resultados notables.
Especificaciones de carburo de titanio (TiC):
tipo de material | Carburo de titanio |
Símbolo | Tic |
Punto de fusión (°C) | 3.140 |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.93 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC): la solución definitiva para todas sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
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Nuestros objetivos de pulverización catódica de carburo de titanio (TiC) se fabrican utilizando técnicas de última generación, lo que garantiza dimensiones precisas, un excelente acabado superficial y una utilización excepcional del objetivo.Esto, a su vez, se traduce en una reducción del tiempo de inactividad, una mayor eficiencia del proceso y, en última instancia, un ahorro de costos para sus operaciones.
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Especificaciones de carburo de titanio (TiC):
tipo de material | Carburo de titanio |
Símbolo | Tic |
Punto de fusión (°C) | 3.140 |
Densidad Teórica (g/cc) | 4.93 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |