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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición avanzadas.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.Ya sea que necesite materiales de deposición para fuentes de pulverización catódica o de evaporación, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) son su opción ideal.
Con un tono de voz profesional, le aseguramos que nuestros productos son fabricados con tecnología de punta y cumplen con estrictos estándares de calidad.Nuestro equipo de expertos garantiza que cada objetivo de pulverización catódica esté meticulosamente elaborado para ofrecer una deposición de película consistente y uniforme.
Los objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) cuentan con características notables que los hacen destacar en la industria.Estos incluyen alta pureza, excelente estabilidad térmica y conductividad eléctrica excepcional.Su rendimiento superior garantiza una deposición eficiente y precisa de películas delgadas, lo que le permite lograr resultados óptimos en sus procesos de investigación o producción.
Nuestro compromiso de proporcionar productos de primera categoría se extiende a nuestro excepcional servicio al cliente.Nuestro equipo capacitado siempre está listo para ayudarlo a seleccionar los objetivos de pulverización catódica, las fuentes de evaporación u otros materiales de deposición adecuados que mejor se adapten a sus requisitos específicos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) para obtener un rendimiento, confiabilidad y durabilidad excepcionales.Experimente la diferencia en sus procesos de deposición de películas delgadas con nuestros productos de alta calidad.
Especificaciones del óxido de tantalio (Ta2O5):
tipo de material | Pentóxido de tantalio |
Símbolo | Ta2O5 |
Color/Apariencia | Blanco, sólido cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.872 |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.2 |
Relación Z | 0.3 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Ligera descomposición. Evaporar Ta en 10-3 Torr O2. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición avanzadas.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.Ya sea que necesite materiales de deposición para fuentes de pulverización catódica o de evaporación, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de tantalio (Ta2O5) son su opción ideal.
Con un tono de voz profesional, le aseguramos que nuestros productos son fabricados con tecnología de punta y cumplen con estrictos estándares de calidad.Nuestro equipo de expertos garantiza que cada objetivo de pulverización catódica esté meticulosamente elaborado para ofrecer una deposición de película consistente y uniforme.
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Especificaciones del óxido de tantalio (Ta2O5):
tipo de material | Pentóxido de tantalio |
Símbolo | Ta2O5 |
Color/Apariencia | Blanco, sólido cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.872 |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.2 |
Relación Z | 0.3 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Ligera descomposición. Evaporar Ta en 10-3 Torr O2. |
