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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio (TaN) de alta calidad, la solución perfecta para sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Elaborados con precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Estos objetivos son ideales para su uso en diversas aplicaciones, incluida la deposición de películas delgadas, la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos y más.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio se fabrican con materiales de primera calidad, lo que garantiza una pureza y consistencia excelentes.Con su composición uniforme y densidad superior, estos objetivos garantizan una deposición consistente de la película y una productividad mejorada.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer sus requisitos específicos.Nuestro completo portafolio de productos le permite encontrar la solución perfecta para sus procesos de deposición, garantizando resultados óptimos y eficiencia.
Cuando se trata de calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio se destacan de la competencia.Cada objetivo se somete a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestro compromiso con la excelencia garantiza que usted reciba solo los mejores productos para sus aplicaciones.
Asóciese con nosotros y experimente la diferencia de trabajar con un proveedor confiable de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestro equipo profesional está dedicado a brindar un servicio al cliente y soporte técnico excepcionales, garantizando una experiencia perfecta de principio a fin.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio para obtener una calidad, confiabilidad y rendimiento inigualables.Eleve sus procesos de deposición a nuevas alturas con nuestros materiales de última generación.Contáctenos hoy para analizar sus requisitos específicos y permítanos ayudarlo a encontrar la solución perfecta para su aplicación.
Especificaciones del nitruro de tantalio (TaN):
tipo de material | Nitruro de tantalio |
Símbolo | Broncearse |
Color/Apariencia | Negro, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 3.360 |
Densidad Teórica (g/cc) | 16.3 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Evaporar Ta en 10-3 Torr N2. |
tipo de material | Nitruro de tantalio |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio (TaN) de alta calidad, la solución perfecta para sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Elaborados con precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Estos objetivos son ideales para su uso en diversas aplicaciones, incluida la deposición de películas delgadas, la fabricación de semiconductores, recubrimientos ópticos y más.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio se fabrican con materiales de primera calidad, lo que garantiza una pureza y consistencia excelentes.Con su composición uniforme y densidad superior, estos objetivos garantizan una deposición consistente de la película y una productividad mejorada.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer sus requisitos específicos.Nuestro completo portafolio de productos le permite encontrar la solución perfecta para sus procesos de deposición, garantizando resultados óptimos y eficiencia.
Cuando se trata de calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de tantalio se destacan de la competencia.Cada objetivo se somete a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestro compromiso con la excelencia garantiza que usted reciba solo los mejores productos para sus aplicaciones.
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Especificaciones del nitruro de tantalio (TaN):
tipo de material | Nitruro de tantalio |
Símbolo | Broncearse |
Color/Apariencia | Negro, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 3.360 |
Densidad Teórica (g/cc) | 16.3 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Evaporar Ta en 10-3 Torr N2. |
tipo de material | Nitruro de tantalio |
