Estado de Disponibilidad: | |
---|---|
Cantidad: | |
TN
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) premium, diseñados para satisfacer las diversas necesidades de diversas industrias.Nuestros objetivos de pulverización catódica, junto con las fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en procesos de deposición de películas delgadas.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) ofrecen una uniformidad, pureza y densidad excepcionales, lo que garantiza recubrimientos de película delgada consistentes y de alta calidad.Estos objetivos están diseñados para resistir condiciones rigurosas de pulverización catódica, lo que permite la deposición eficiente y controlada de películas de tantalio sobre sustratos.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta), puede lograr recubrimientos de película delgada precisos y reproducibles para aplicaciones como dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos, medios de almacenamiento magnéticos y más.Nuestros objetivos están disponibles en varias formas, tamaños y configuraciones para satisfacer sus requisitos específicos, garantizando la compatibilidad con diferentes sistemas de pulverización catódica.
Estamos orgullosos de nuestro compromiso de ofrecer productos de primera categoría que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento excepcional, una longevidad y la satisfacción del cliente.
Asóciese con nosotros y experimente la excelencia de nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Mejore sus procesos de deposición de películas delgadas con nuestros productos de calidad profesional, diseñados para satisfacer las demandas incluso de las aplicaciones más desafiantes.Confíe en nuestra experiencia y descubra nuevas posibilidades en sus procesos de declaración.
Especificaciones de tantalio (Ta):
tipo de material | tantalio |
Símbolo | Ejército de reserva |
Peso atomico | 180.9479 |
Número atómico | 73 |
Color/Apariencia | Gris Azul, Metálico |
Conductividad térmica | 57 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 3.017 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 6,3x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 16.6 |
Relación Z | 0.262 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 100* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Forma buenas películas. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) premium, diseñados para satisfacer las diversas necesidades de diversas industrias.Nuestros objetivos de pulverización catódica, junto con las fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en procesos de deposición de películas delgadas.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) ofrecen una uniformidad, pureza y densidad excepcionales, lo que garantiza recubrimientos de película delgada consistentes y de alta calidad.Estos objetivos están diseñados para resistir condiciones rigurosas de pulverización catódica, lo que permite la deposición eficiente y controlada de películas de tantalio sobre sustratos.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta), puede lograr recubrimientos de película delgada precisos y reproducibles para aplicaciones como dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos, medios de almacenamiento magnéticos y más.Nuestros objetivos están disponibles en varias formas, tamaños y configuraciones para satisfacer sus requisitos específicos, garantizando la compatibilidad con diferentes sistemas de pulverización catódica.
Estamos orgullosos de nuestro compromiso de ofrecer productos de primera categoría que cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento excepcional, una longevidad y la satisfacción del cliente.
Asóciese con nosotros y experimente la excelencia de nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Mejore sus procesos de deposición de películas delgadas con nuestros productos de calidad profesional, diseñados para satisfacer las demandas incluso de las aplicaciones más desafiantes.Confíe en nuestra experiencia y descubra nuevas posibilidades en sus procesos de declaración.
Especificaciones de tantalio (Ta):
tipo de material | tantalio |
Símbolo | Ejército de reserva |
Peso atomico | 180.9479 |
Número atómico | 73 |
Color/Apariencia | Gris Azul, Metálico |
Conductividad térmica | 57 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 3.017 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 6,3x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 16.6 |
Relación Z | 0.262 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 100* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Forma buenas películas. |