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Blancos de pulverización catódica de tantalio (Ta)

Objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
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  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) premium, diseñados para satisfacer las diversas necesidades de diversas industrias.Nuestros objetivos de pulverización catódica, junto con las fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en procesos de deposición de películas delgadas.


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Especificaciones de tantalio (Ta):

tipo de material

tantalio

Símbolo

Ejército de reserva

Peso atomico

180.9479

Número atómico

73

Color/Apariencia

Gris Azul, Metálico

Conductividad térmica

57 W/mK

Punto de fusión (°C)

3.017

Coeficiente de Térmico   Expansión

6,3x10-6/K

Densidad Teórica (g/cc)

16.6

Relación Z

0.262

Chisporroteo

corriente continua

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

100*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Forma buenas películas.


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