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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de indio y estaño (ITO) de alta calidad, la opción ideal para objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ITO constan de una composición de In2O3SnO2 con una proporción de peso de 90:10.Esta mezcla única garantiza un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversos procesos de deposición de películas delgadas.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica ITO, puede lograr una calidad de película superior, una conductividad eléctrica excelente y propiedades ópticas excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para cumplir con los exigentes requisitos de industrias como la electrónica, las células solares, las pantallas táctiles y más.
Nuestro compromiso con la calidad se refleja en la pureza excepcional de nuestros objetivos de pulverización catódica ITO, lo que garantiza impurezas mínimas y uniformidad en todo el material.Esto garantiza resultados consistentes y repetibles, mejorando la eficiencia de sus procesos de deposición.
Fabricados con técnicas avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica ITO exhiben una excelente estabilidad térmica, lo que permite un uso prolongado sin comprometer el rendimiento.Las dimensiones precisas y el acabado superficial de nuestros objetivos permiten una fácil instalación y una pulverización eficiente, lo que reduce el tiempo de inactividad y maximiza la productividad.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica ITO por su rendimiento excepcional, confiabilidad y calidad de película constante.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para satisfacer sus necesidades específicas de deposición de películas delgadas.Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestra amplia gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Óxido de indio y estaño, ITO (In2O3/SnO2 90/10 % en peso) Especificaciones:
tipo de material | Óxido de indio y estaño |
Símbolo | In2O3/SnO2 90/10 % en peso |
Punto de fusión (°C) | 1.800 |
Densidad Teórica (g/cc) | 7.14 |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de indio y estaño (ITO) de alta calidad, la opción ideal para objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ITO constan de una composición de In2O3SnO2 con una proporción de peso de 90:10.Esta mezcla única garantiza un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversos procesos de deposición de películas delgadas.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica ITO, puede lograr una calidad de película superior, una conductividad eléctrica excelente y propiedades ópticas excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para cumplir con los exigentes requisitos de industrias como la electrónica, las células solares, las pantallas táctiles y más.
Nuestro compromiso con la calidad se refleja en la pureza excepcional de nuestros objetivos de pulverización catódica ITO, lo que garantiza impurezas mínimas y uniformidad en todo el material.Esto garantiza resultados consistentes y repetibles, mejorando la eficiencia de sus procesos de deposición.
Fabricados con técnicas avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica ITO exhiben una excelente estabilidad térmica, lo que permite un uso prolongado sin comprometer el rendimiento.Las dimensiones precisas y el acabado superficial de nuestros objetivos permiten una fácil instalación y una pulverización eficiente, lo que reduce el tiempo de inactividad y maximiza la productividad.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica ITO por su rendimiento excepcional, confiabilidad y calidad de película constante.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para satisfacer sus necesidades específicas de deposición de películas delgadas.Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestra amplia gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Óxido de indio y estaño, ITO (In2O3/SnO2 90/10 % en peso) Especificaciones:
tipo de material | Óxido de indio y estaño |
Símbolo | In2O3/SnO2 90/10 % en peso |
Punto de fusión (°C) | 1.800 |
Densidad Teórica (g/cc) | 7.14 |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
