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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio (Sb) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en aplicaciones de pulverización catódica.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio se fabrican utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una composición homogénea y una pureza superior.Esto garantiza una deposición consistente de la película y excelentes propiedades de la película, lo que los hace ideales para una amplia gama de aplicaciones.
Con nuestra amplia experiencia en deposición de películas delgadas, ofrecemos una amplia gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están cuidadosamente diseñados para ofrecer resultados precisos y reproducibles, lo que le permitirá lograr las características deseadas de película delgada con la máxima eficiencia.
Nuestros objetivos de pulverización catódica están disponibles en varios tamaños y configuraciones, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas y procesos de pulverización catódica.Ya sea que necesite objetivos de uno o varios elementos, podemos adaptar nuestras ofertas para satisfacer sus requisitos específicos.
Entendemos la importancia de los materiales de deposición confiables y de alto rendimiento en sus aplicaciones industriales o de investigación.Por lo tanto, nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar la calidad y el rendimiento constantes del producto.Esta dedicación a la excelencia nos ha convertido en un proveedor confiable en la industria de deposición de películas delgadas.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio (Sb) por su excepcional calidad, confiabilidad y compatibilidad con diversos procesos de deposición.Experimente la precisión y eficiencia que nuestros productos aportan a sus aplicaciones de película delgada.Asóciese con nosotros para todos sus objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y necesidades de materiales de deposición, y aproveche todo el potencial de sus procesos de deposición de películas delgadas.
Especificaciones de los objetivos de pulverización catódica de antimonio (Sb):
tipo de material | Antimonio |
Símbolo | sb |
Peso atomico | 121.76 |
Número atómico | 51 |
Color/Apariencia | Plateado, Gris brillante, semimetálico |
Conductividad térmica | 24 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 630 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 11x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.68 |
Relación Z | 0.768 |
Chisporroteo | RF, CC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | indio, Elastómero |
Comentarios | Se evapora bien. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio (Sb) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en aplicaciones de pulverización catódica.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio se fabrican utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una composición homogénea y una pureza superior.Esto garantiza una deposición consistente de la película y excelentes propiedades de la película, lo que los hace ideales para una amplia gama de aplicaciones.
Con nuestra amplia experiencia en deposición de películas delgadas, ofrecemos una amplia gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están cuidadosamente diseñados para ofrecer resultados precisos y reproducibles, lo que le permitirá lograr las características deseadas de película delgada con la máxima eficiencia.
Nuestros objetivos de pulverización catódica están disponibles en varios tamaños y configuraciones, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas y procesos de pulverización catódica.Ya sea que necesite objetivos de uno o varios elementos, podemos adaptar nuestras ofertas para satisfacer sus requisitos específicos.
Entendemos la importancia de los materiales de deposición confiables y de alto rendimiento en sus aplicaciones industriales o de investigación.Por lo tanto, nuestros objetivos de pulverización catódica de antimonio se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar la calidad y el rendimiento constantes del producto.Esta dedicación a la excelencia nos ha convertido en un proveedor confiable en la industria de deposición de películas delgadas.
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Especificaciones de los objetivos de pulverización catódica de antimonio (Sb):
tipo de material | Antimonio |
Símbolo | sb |
Peso atomico | 121.76 |
Número atómico | 51 |
Color/Apariencia | Plateado, Gris brillante, semimetálico |
Conductividad térmica | 24 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 630 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 11x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.68 |
Relación Z | 0.768 |
Chisporroteo | RF, CC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | indio, Elastómero |
Comentarios | Se evapora bien. |