Estado de Disponibilidad: | |
---|---|
Cantidad: | |
TN
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otras aplicaciones de deposición, estos objetivos están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) garantizan una utilización superior del material, lo que permite una deposición de película delgada eficiente y rentable.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos que cumplen con los más altos estándares de la industria.
Estos objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente con material de germanio (Ge) de alta calidad, diseñado específicamente para aplicaciones de tipo N.Esto garantiza una conductividad eléctrica óptima y características mejoradas de la película, lo que permite un control preciso sobre el proceso de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) exhiben una excelente estabilidad térmica, lo que garantiza un rendimiento constante incluso en condiciones exigentes.Los objetivos están diseñados para resistir pulverización catódica de alta potencia, lo que da como resultado una erosión mínima del objetivo y una vida útil prolongada del producto.
Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica para investigación, desarrollo o producción a gran escala, nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) son la opción ideal.Con su pureza y uniformidad excepcionales, permiten la deposición de películas de alta calidad con excelente adhesión y uniformidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de contar con materiales de deposición confiables y de alto rendimiento.Nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) ejemplifican nuestro compromiso de ofrecer productos que superen las expectativas.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para satisfacer sus necesidades de deposición con precisión y profesionalismo.
Germanio (Ge (tipo N)) Especificaciones:
tipo de material | Germanio |
Símbolo | Ge (tipo N) |
Peso atomico | 72.63 |
Número atómico | 32 |
Color/Apariencia | blanco grisáceo, Semimetálico |
Conductividad térmica | 60 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 937 |
Resistividad masiva | 5-40 ohmios-cm |
Coeficiente de Térmico Expansión | 6x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.32 |
dopante | Antimonio |
Relación Z | 0.516 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Excelentes películas de E-beam. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)), el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otras aplicaciones de deposición, estos objetivos están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) garantizan una utilización superior del material, lo que permite una deposición de película delgada eficiente y rentable.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos que cumplen con los más altos estándares de la industria.
Estos objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente con material de germanio (Ge) de alta calidad, diseñado específicamente para aplicaciones de tipo N.Esto garantiza una conductividad eléctrica óptima y características mejoradas de la película, lo que permite un control preciso sobre el proceso de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) exhiben una excelente estabilidad térmica, lo que garantiza un rendimiento constante incluso en condiciones exigentes.Los objetivos están diseñados para resistir pulverización catódica de alta potencia, lo que da como resultado una erosión mínima del objetivo y una vida útil prolongada del producto.
Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica para investigación, desarrollo o producción a gran escala, nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) son la opción ideal.Con su pureza y uniformidad excepcionales, permiten la deposición de películas de alta calidad con excelente adhesión y uniformidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de contar con materiales de deposición confiables y de alto rendimiento.Nuestros objetivos de pulverización catódica de germanio (Ge (tipo N)) ejemplifican nuestro compromiso de ofrecer productos que superen las expectativas.Confíe en nuestra experiencia y conocimientos para satisfacer sus necesidades de deposición con precisión y profesionalismo.
Germanio (Ge (tipo N)) Especificaciones:
tipo de material | Germanio |
Símbolo | Ge (tipo N) |
Peso atomico | 72.63 |
Número atómico | 32 |
Color/Apariencia | blanco grisáceo, Semimetálico |
Conductividad térmica | 60 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 937 |
Resistividad masiva | 5-40 ohmios-cm |
Coeficiente de Térmico Expansión | 6x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.32 |
dopante | Antimonio |
Relación Z | 0.516 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Excelentes películas de E-beam. |