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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición avanzadas.Con un tono de voz profesional, presentamos con orgullo nuestra excepcional gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) están meticulosamente diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad superiores en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.Estos objetivos se fabrican con tecnología de última generación y se adhieren a estrictas medidas de control de calidad, lo que garantiza resultados consistentes y precisos en todo momento.
Diseñados para su uso en procesos de deposición física de vapor (PVD), nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) ofrecen una pureza y uniformidad excepcionales, lo que garantiza una deposición de película eficiente y uniforme.Estos objetivos están disponibles en varias formas y tamaños, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas de pulverización catódica y requisitos personalizados.
Nuestro compromiso con la excelencia se extiende más allá de la calidad del producto.Entendemos la importancia de una atención al cliente rápida y confiable.Nuestro equipo de expertos está siempre listo para ayudarle con consultas técnicas, selección de productos y cualquier otra asistencia que pueda necesitar.
Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, recubrimientos ópticos o investigación y desarrollo, nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) son la opción ideal para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Confíe en nuestros productos de calidad profesional para lograr resultados precisos y consistentes, lo que le permitirá mantenerse a la vanguardia en su campo.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) para obtener un rendimiento inigualable, una calidad excepcional y un excelente servicio al cliente.Experimente la diferencia hoy y lleve sus procesos de deposición a nuevas alturas.
Especificaciones de paladio (Pd):
tipo de material | Paladio |
Símbolo | PD |
Peso atomico | 106.42 |
Número atómico | 46 |
Color/Apariencia | Blanco plateado metalizado |
Conductividad térmica | 72 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.554 |
Coeficiente de expansión termal | 11,8 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 12.02 |
Relación Z | 0.357 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 100* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con refractario rieles. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición avanzadas.Con un tono de voz profesional, presentamos con orgullo nuestra excepcional gama de objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) están meticulosamente diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad superiores en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.Estos objetivos se fabrican con tecnología de última generación y se adhieren a estrictas medidas de control de calidad, lo que garantiza resultados consistentes y precisos en todo momento.
Diseñados para su uso en procesos de deposición física de vapor (PVD), nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) ofrecen una pureza y uniformidad excepcionales, lo que garantiza una deposición de película eficiente y uniforme.Estos objetivos están disponibles en varias formas y tamaños, lo que permite la compatibilidad con diferentes sistemas de pulverización catódica y requisitos personalizados.
Nuestro compromiso con la excelencia se extiende más allá de la calidad del producto.Entendemos la importancia de una atención al cliente rápida y confiable.Nuestro equipo de expertos está siempre listo para ayudarle con consultas técnicas, selección de productos y cualquier otra asistencia que pueda necesitar.
Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, recubrimientos ópticos o investigación y desarrollo, nuestros objetivos de pulverización catódica de paladio (Pd) son la opción ideal para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Confíe en nuestros productos de calidad profesional para lograr resultados precisos y consistentes, lo que le permitirá mantenerse a la vanguardia en su campo.
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Especificaciones de paladio (Pd):
tipo de material | Paladio |
Símbolo | PD |
Peso atomico | 106.42 |
Número atómico | 46 |
Color/Apariencia | Blanco plateado metalizado |
Conductividad térmica | 72 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.554 |
Coeficiente de expansión termal | 11,8 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 12.02 |
Relación Z | 0.357 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 100* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con refractario rieles. |
