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Descripción general de los objetivos de pulverización catódica de óxido de aluminio (Al2O3)

Objetivos de pulverización catódica de óxido de aluminio (Al2O3) La descripción general se evapora al vacío para formar películas dieléctricas para la industria de semiconductores y como una capa protectora similar a un espejo para recubrimientos ópticos.
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El óxido de aluminio, o más comúnmente llamado alúmina, es un compuesto químico con una fórmula química de Al2O3.Generalmente es de apariencia blanca o transparente con un punto de fusión de 2072 °C, una presión de vapor de 10-4 Torr a 1550 °C y una densidad de 3,97 g/cc.Se encuentra más comúnmente en la naturaleza como mineral corindón, del cual se derivan el rubí y el zafiro.El óxido de aluminio se utiliza ampliamente como abrasivo y en diversas aplicaciones industriales.También se puede encontrar en pinturas, cosméticos e implantes quirúrgicos.Se evapora al vacío para formar películas dieléctricas para la industria de semiconductores y como capa protectora similar a un espejo para recubrimientos ópticos.

Especificaciones del óxido de aluminio (Al2O3):

tipo de material

Oxido de aluminio

Símbolo

Alabama2O3

Color/Apariencia

Blanco, Sólido Cristalino

Punto de fusión (°C)

2.072

Densidad Teórica (g/cc)

3.97

Relación Z

0.336

Chisporroteo

RF-R

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

20*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Zafiro excelente en E

haz;Forma películas suaves y duras.  Posible evaporación térmica   imposible


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