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TN-MSP325S-2DCRF-ZD
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos con mesa de muestras vibratoria es un recubridor especial para procesar muestras de polvo y partículas en el laboratorio con tres sitios de destino desarrollado por nuestra empresa.El equipo está equipado con dos fuentes de alimentación de CC y una fuente de alimentación de RF, que se pueden utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.
En comparación con la pulverización catódica por plasma ordinaria, la pulverización catódica con magnetrón tiene las ventajas de alta energía y velocidad rápida, alta tasa de recubrimiento y bajo aumento de temperatura de la muestra.Es una típica pulverización catódica de alta velocidad y baja temperatura.El objetivo del magnetrón está equipado con un refrigerador por agua.
capa intermedia y el enfriador de agua puede eliminar el calor de manera efectiva para evitar la acumulación de calor en la superficie objetivo, de modo que el recubrimiento del magnetrón pueda funcionar de manera estable durante mucho tiempo.
El equipo está equipado con una mesa de muestra de vibración con vibración de conversión de frecuencia, que se puede colocar sobre el polvo o las partículas voltear irregularmente para garantizar que la superficie de todas las partículas se pueda recubrir con el recubrimiento durante el proceso de recubrimiento, para evitar la Situación de recubrimiento desigual.Es un equipo PVD diseñado para muestras granulares.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
Artículo | Detalles | |
Tensión de alimentación | 220 V CA, 50 Hz | |
potencia de la máquina | 6kW | |
Vacío definitivo | 5x10-4Pa | |
Parámetros del banco de muestras | Dimensions | Fi 150 mm |
Modo de vibración | El motor de frecuencia variable acciona los engranajes. | |
magnetrón cabeza chisporroteante parámetros | Cantidad | Incline 3 2 'cabezales de pulverización magnetrón en un ángulo de 15。 desde el dirección vertical |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua, caudal requerido 10 l/min. | |
Especificaciones del enfriador de agua. | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Vacío cámara | Tamaño de la cámara | φ300 mm x 340 mm de alto |
Material de la cavidad | Acero inoxidable | |
ventana de visualización | Fi 100 mm | |
Como abrir | Tipo abierto superior, fácil de cambiar el objetivo. | |
Controlador de flujo de gas | 1 canal 200sccm Ar; | |
Bomba aspiradora | Equipado con un sistema de bomba molecular, velocidad de bombeo 600L/S | |
Película Medida de espesor | Un medidor de espesor de película vibratoria de cuarzo, resolución 0,10 A. | |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC 2 juegos, 500 W, adecuada para preparar películas metálicas 1 fuente de alimentación RF, 500W, adecuada para revestimientos no metálicos | |
Modo de operación | Operación de computadora todo en uno | |
Máquina tamaño | 1090 mm x 900 mm x 1250 mm | |
Máquina peso | 350 kilos | |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de tres objetivos con mesa de muestras vibratoria es un recubridor especial para procesar muestras de polvo y partículas en el laboratorio con tres sitios de destino desarrollado por nuestra empresa.El equipo está equipado con dos fuentes de alimentación de CC y una fuente de alimentación de RF, que se pueden utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.
En comparación con la pulverización catódica por plasma ordinaria, la pulverización catódica con magnetrón tiene las ventajas de alta energía y velocidad rápida, alta tasa de recubrimiento y bajo aumento de temperatura de la muestra.Es una típica pulverización catódica de alta velocidad y baja temperatura.El objetivo del magnetrón está equipado con un refrigerador por agua.
capa intermedia y el enfriador de agua puede eliminar el calor de manera efectiva para evitar la acumulación de calor en la superficie objetivo, de modo que el recubrimiento del magnetrón pueda funcionar de manera estable durante mucho tiempo.
El equipo está equipado con una mesa de muestra de vibración con vibración de conversión de frecuencia, que se puede colocar sobre el polvo o las partículas voltear irregularmente para garantizar que la superficie de todas las partículas se pueda recubrir con el recubrimiento durante el proceso de recubrimiento, para evitar la Situación de recubrimiento desigual.Es un equipo PVD diseñado para muestras granulares.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
Artículo | Detalles | |
Tensión de alimentación | 220 V CA, 50 Hz | |
potencia de la máquina | 6kW | |
Vacío definitivo | 5x10-4Pa | |
Parámetros del banco de muestras | Dimensions | Fi 150 mm |
Modo de vibración | El motor de frecuencia variable acciona los engranajes. | |
magnetrón cabeza chisporroteante parámetros | Cantidad | Incline 3 2 'cabezales de pulverización magnetrón en un ángulo de 15。 desde el dirección vertical |
Modo de enfriamiento | Refrigeración por agua, caudal requerido 10 l/min. | |
Especificaciones del enfriador de agua. | Enfriador de agua circulante con caudal de 10 l/min. | |
Vacío cámara | Tamaño de la cámara | φ300 mm x 340 mm de alto |
Material de la cavidad | Acero inoxidable | |
ventana de visualización | Fi 100 mm | |
Como abrir | Tipo abierto superior, fácil de cambiar el objetivo. | |
Controlador de flujo de gas | 1 canal 200sccm Ar; | |
Bomba aspiradora | Equipado con un sistema de bomba molecular, velocidad de bombeo 600L/S | |
Película Medida de espesor | Un medidor de espesor de película vibratoria de cuarzo, resolución 0,10 A. | |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC 2 juegos, 500 W, adecuada para preparar películas metálicas 1 fuente de alimentación RF, 500W, adecuada para revestimientos no metálicos | |
Modo de operación | Operación de computadora todo en uno | |
Máquina tamaño | 1090 mm x 900 mm x 1250 mm | |
Máquina peso | 350 kilos | |
