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TN-MSP300S-2DC
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo y alto vacío con cámara de acero inoxidable para películas de aleación.Esta recubridora de última generación está diseñada para satisfacer las diversas necesidades de los profesionales de diversas industrias.
Con su capacidad de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, este recubridor permite la preparación precisa de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones y más.
Fabricada con una robusta cámara de acero inoxidable, esta recubridora garantiza durabilidad y longevidad, lo que la convierte en una opción confiable para sus requisitos de recubrimiento.
La tecnología de alto vacío empleada en esta recubridora garantiza un entorno óptimo y controlado para el proceso de deposición, lo que da como resultado películas uniformes y de alta calidad.
Equipado con funciones avanzadas, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo ofrece una versatilidad y eficiencia excepcionales.El sistema de doble objetivo permite la deposición de diferentes materiales simultáneamente, ahorrando tiempo y mejorando la productividad.
El rendimiento de nivel profesional de esta recubridora se complementa con su interfaz fácil de usar, que permite una operación sencilla y un control preciso sobre varios parámetros.
Ya sea que se dedique al campo de investigación y desarrollo o se dedique a la producción industrial, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo y alto vacío con cámara de acero inoxidable para películas de aleación es la opción ideal para lograr resultados de recubrimiento superiores.Invierta en esta recubridora de última generación y lleve sus procesos de recubrimiento a nuevas alturas de excelencia.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | fuente de alimentación×2 fuente de alimentación: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo y alto vacío con cámara de acero inoxidable para películas de aleación.Esta recubridora de última generación está diseñada para satisfacer las diversas necesidades de los profesionales de diversas industrias.
Con su capacidad de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, este recubridor permite la preparación precisa de películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleaciones y más.
Fabricada con una robusta cámara de acero inoxidable, esta recubridora garantiza durabilidad y longevidad, lo que la convierte en una opción confiable para sus requisitos de recubrimiento.
La tecnología de alto vacío empleada en esta recubridora garantiza un entorno óptimo y controlado para el proceso de deposición, lo que da como resultado películas uniformes y de alta calidad.
Equipado con funciones avanzadas, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo ofrece una versatilidad y eficiencia excepcionales.El sistema de doble objetivo permite la deposición de diferentes materiales simultáneamente, ahorrando tiempo y mejorando la productividad.
El rendimiento de nivel profesional de esta recubridora se complementa con su interfaz fácil de usar, que permite una operación sencilla y un control preciso sobre varios parámetros.
Ya sea que se dedique al campo de investigación y desarrollo o se dedique a la producción industrial, nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo y alto vacío con cámara de acero inoxidable para películas de aleación es la opción ideal para lograr resultados de recubrimiento superiores.Invierta en esta recubridora de última generación y lleve sus procesos de recubrimiento a nuevas alturas de excelencia.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | fuente de alimentación×2 fuente de alimentación: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
