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TN-MSP180G-PST
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único planetario de escritorio, la solución definitiva para un recubrimiento preciso y eficiente de vidrio de película de óxido de indio y estaño ITO.Diseñada pensando en el profesionalismo, esta recubridora de vanguardia ofrece un rendimiento y una versatilidad incomparables.
Equipado con tecnología avanzada, nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo permite la preparación de películas delgadas, películas conductoras y películas de aleaciones ferroeléctricas de una o varias capas de alta calidad.Ya sea que necesite un recubrimiento de una sola capa o una estructura compleja de múltiples capas, nuestra recubridora garantiza una uniformidad y precisión excepcionales durante todo el proceso.
Con su diseño de escritorio compacto, esta recubridora es perfecta para laboratorios, instalaciones de investigación y entornos de producción a pequeña escala.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su operación, incluso para aquellos nuevos en la tecnología de pulverización catódica.Nuestra recubridora garantiza un control preciso sobre los parámetros de deposición, permitiéndole alcanzar el espesor, composición y morfología deseados de sus películas con la máxima precisión.
Nuestra recubridora no solo ofrece un rendimiento excepcional, sino que también cuenta con una durabilidad y confiabilidad notables.Fabricada con materiales de alta calidad y diseñada con los más altos estándares, esta recubridora garantiza un funcionamiento duradero y requisitos mínimos de mantenimiento.Su construcción robusta garantiza un rendimiento estable y consistente, lo que le permite lograr resultados consistentes una y otra vez.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único planetario de escritorio para obtener capacidades de recubrimiento y eficiencia incomparables.Ya sea que esté trabajando en proyectos de investigación, estudios académicos o aplicaciones industriales, esta recubridora sin duda elevará su trabajo a nuevas alturas.Experimente el poder de un recubrimiento de película preciso y eficiente con nuestra recubridora de primera línea.
Parámetros técnicos del recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
TN-MSP180G-PST (planetario tabla de muestra) recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo | ||||
Muestra escenario | Tamaño | ø50mm x4 | Rotación velocidad | El La velocidad de revolución es ajustable de 0 a 10 rpm, y la revolución y rotación la relación de velocidad es 1:5 |
magnetrón objetivo de chisporroteo | Cantidad | 2' x1 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Φ180mm x 100 mm | Observación ventana | Omnidireccional visibilidad |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | Apertura método | Arriba cubierta removible | |
Más bajo brida | Contiene Mecanismo de transmisión planetaria, interfaz de vacío soldada y válvula de admisión. | |||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Dos etapas bomba de paletas rotativas | Bombeo interfaz | KF16 |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | Bombeo interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | Escape interfaz | KF40 | |
Último vacío | 1.0E-3Pa | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Apoyo bomba: 1.1L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 | Máximo potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | En general tamaño | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Total fuerza | 2kW |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único planetario de escritorio, la solución definitiva para un recubrimiento preciso y eficiente de vidrio de película de óxido de indio y estaño ITO.Diseñada pensando en el profesionalismo, esta recubridora de vanguardia ofrece un rendimiento y una versatilidad incomparables.
Equipado con tecnología avanzada, nuestro recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo permite la preparación de películas delgadas, películas conductoras y películas de aleaciones ferroeléctricas de una o varias capas de alta calidad.Ya sea que necesite un recubrimiento de una sola capa o una estructura compleja de múltiples capas, nuestra recubridora garantiza una uniformidad y precisión excepcionales durante todo el proceso.
Con su diseño de escritorio compacto, esta recubridora es perfecta para laboratorios, instalaciones de investigación y entornos de producción a pequeña escala.Su interfaz fácil de usar y sus controles intuitivos facilitan su operación, incluso para aquellos nuevos en la tecnología de pulverización catódica.Nuestra recubridora garantiza un control preciso sobre los parámetros de deposición, permitiéndole alcanzar el espesor, composición y morfología deseados de sus películas con la máxima precisión.
Nuestra recubridora no solo ofrece un rendimiento excepcional, sino que también cuenta con una durabilidad y confiabilidad notables.Fabricada con materiales de alta calidad y diseñada con los más altos estándares, esta recubridora garantiza un funcionamiento duradero y requisitos mínimos de mantenimiento.Su construcción robusta garantiza un rendimiento estable y consistente, lo que le permite lograr resultados consistentes una y otra vez.
Invierta en nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único planetario de escritorio para obtener capacidades de recubrimiento y eficiencia incomparables.Ya sea que esté trabajando en proyectos de investigación, estudios académicos o aplicaciones industriales, esta recubridora sin duda elevará su trabajo a nuevas alturas.Experimente el poder de un recubrimiento de película preciso y eficiente con nuestra recubridora de primera línea.
Parámetros técnicos del recubridor planetario por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo:
TN-MSP180G-PST (planetario tabla de muestra) recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo | ||||
Muestra escenario | Tamaño | ø50mm x4 | Rotación velocidad | El La velocidad de revolución es ajustable de 0 a 10 rpm, y la revolución y rotación la relación de velocidad es 1:5 |
magnetrón objetivo de chisporroteo | Cantidad | 2' x1 | ||
Vacío cámara | Cámara tamaño | Φ180mm x 100 mm | Observación ventana | Omnidireccional visibilidad |
Cámara material | Alto cuarzo pureza | Apertura método | Arriba cubierta removible | |
Más bajo brida | Contiene Mecanismo de transmisión planetaria, interfaz de vacío soldada y válvula de admisión. | |||
Vacío sistema | Mecánico bomba | Dos etapas bomba de paletas rotativas | Bombeo interfaz | KF16 |
Molecular bomba | turbomolecular bomba | Bombeo interfaz | KF40 | |
Vacío medición | Resistencia manómetro + manómetro de ionización | Escape interfaz | KF40 | |
Último vacío | 1.0E-3Pa | Fuerza suministrar | C.A. 220V 50/60Hz | |
Bombeo tasa | Apoyo bomba: 1.1L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Fuerza configuración | Cantidad | corriente continua fuente de alimentación x1 | Máximo potencia de salida | corriente continua fuente de alimentación 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50Hz | En general tamaño | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Total fuerza | 2kW |