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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) de alta calidad, la solución perfecta para sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Diseñados para satisfacer las demandas de las industrias más avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales.Con nuestro proceso de fabricación de última generación, garantizamos la más alta pureza y consistencia, asegurando resultados óptimos en sus aplicaciones de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) están diseñados específicamente para proporcionar excelentes propiedades de pulverización catódica y evaporación, lo que permite una deposición de película precisa y uniforme.Ya sea que esté trabajando en dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos o células solares de película delgada, nuestros objetivos de pulverización catódica brindarán un rendimiento superior, garantizando un proceso de deposición eficiente y sin problemas.
Además de los objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO), también ofrecemos una amplia gama de materiales de deposición complementarios, incluidas fuentes de evaporación y otros objetivos de pulverización catódica.Estos materiales han sido cuidadosamente seleccionados para cumplir con los más altos estándares de la industria, garantizando una calidad y rendimiento excepcionales.
En [Nombre de la empresa], estamos orgullosos de nuestro compromiso de ofrecer productos de primer nivel que satisfagan las diversas necesidades de nuestros clientes.Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) y otros materiales de deposición se fabrican con la máxima precisión y se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar resultados consistentes y confiables.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) para sus aplicaciones de pulverización catódica y deposición, y experimente la diferencia en rendimiento y calidad.Confíe en nuestra experiencia y dedicación para proporcionar los mejores materiales para sus requisitos tecnológicos avanzados.
Óxido de cobre (CuO)Especificaciones:
Material | Tamaño | pureza | Pureza |
Óxido de cobre | 1,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 1,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 2,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 2,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 3,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 3,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 4.00' de diámetro x 0.250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 4.00' de diámetro x 0.125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 6.00' de diámetro x 0.250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 6.00' de diámetro x 0.125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) de alta calidad, la solución perfecta para sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Diseñados para satisfacer las demandas de las industrias más avanzadas, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) ofrecen un rendimiento y confiabilidad excepcionales.Con nuestro proceso de fabricación de última generación, garantizamos la más alta pureza y consistencia, asegurando resultados óptimos en sus aplicaciones de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) están diseñados específicamente para proporcionar excelentes propiedades de pulverización catódica y evaporación, lo que permite una deposición de película precisa y uniforme.Ya sea que esté trabajando en dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos o células solares de película delgada, nuestros objetivos de pulverización catódica brindarán un rendimiento superior, garantizando un proceso de deposición eficiente y sin problemas.
Además de los objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO), también ofrecemos una amplia gama de materiales de deposición complementarios, incluidas fuentes de evaporación y otros objetivos de pulverización catódica.Estos materiales han sido cuidadosamente seleccionados para cumplir con los más altos estándares de la industria, garantizando una calidad y rendimiento excepcionales.
En [Nombre de la empresa], estamos orgullosos de nuestro compromiso de ofrecer productos de primer nivel que satisfagan las diversas necesidades de nuestros clientes.Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) y otros materiales de deposición se fabrican con la máxima precisión y se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar resultados consistentes y confiables.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cobre (CuO) para sus aplicaciones de pulverización catódica y deposición, y experimente la diferencia en rendimiento y calidad.Confíe en nuestra experiencia y dedicación para proporcionar los mejores materiales para sus requisitos tecnológicos avanzados.
Óxido de cobre (CuO)Especificaciones:
Material | Tamaño | pureza | Pureza |
Óxido de cobre | 1,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 1,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 2,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 2,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 3,00' de diámetro x 0,250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 3,00' de diámetro x 0,125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 4.00' de diámetro x 0.250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 4.00' de diámetro x 0.125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 6.00' de diámetro x 0.250' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
Óxido de cobre | 6.00' de diámetro x 0.125' de espesor | 99,7% | La mayoría de las armas estándar |
