Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3)

Objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3)

objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3), la solución perfecta para sus necesidades de pulverización catódica y deposición.


Elaborados con la máxima precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Fabricados con óxido de cromo (Cr2O3) de alta calidad, estos objetivos ofrecen una excelente estabilidad química y térmica, lo que garantiza una funcionalidad duradera incluso en condiciones exigentes.


Ya sea que trabaje en el campo de la electrónica, la óptica o la tecnología de película delgada, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3) son lo suficientemente versátiles para satisfacer sus requisitos específicos.Con su excelente conductividad y uniformidad, estos objetivos permiten una deposición de película eficiente y uniforme, lo que da como resultado una calidad de película superior y una productividad mejorada.


No solo proporcionamos objetivos de pulverización catódica, sino que también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer diversas necesidades de aplicaciones.Nuestra amplia selección garantiza que usted tenga acceso a todos los materiales necesarios para procesos exitosos de deposición de películas delgadas.


Cuando se trata de calidad y confiabilidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3) se destacan de la competencia.Nos adherimos a estrictas medidas de control de calidad durante todo el proceso de fabricación para garantizar que cada objetivo cumpla con los más altos estándares de la industria.Nuestro compromiso con la excelencia garantiza un rendimiento constante y la satisfacción del cliente.


Asóciese con nosotros y experimente la diferencia que nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de cromo (Cr2O3) pueden marcar en sus aplicaciones de pulverización catódica y deposición.Confíe en nuestra experiencia y confíe en nuestros productos de calidad profesional para lograr resultados excepcionales.

Especificaciones del óxido de cromo (Cr2O3):

tipo de material

Óxido de cromo

Símbolo

Cr2O3

Color/Apariencia

Verde, sólido cristalino

Punto de fusión (°C)

2,266

Densidad Teórica (g/cc)

5.21

Relación Z

**1.00

Chisporroteo

RF, RF-R

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

20*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Desproporcionado para bajar   óxidos;Se reoxida a 600°C en el aire.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com