Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro (Fe2O3)

Objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro (Fe2O3)

objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro (Fe2O3) de primera línea, la solución perfecta para todas sus necesidades de pulverización catódica y deposición.Como proveedor líder de materiales avanzados, nos enorgullecemos de ofrecer productos de alta calidad que satisfacen las demandas de diversas industrias.


Nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro están diseñados específicamente para ofrecer un rendimiento excepcional en procesos de pulverización catódica.Con su composición precisa y pureza superior, estos objetivos garantizan una deposición eficiente y confiable de películas delgadas de óxido de hierro.Ya sea que esté trabajando en proyectos de investigación y desarrollo o en producción a gran escala, nuestros objetivos de pulverización catódica garantizan una deposición de película consistente y uniforme, lo que le permite lograr los resultados deseados con la máxima precisión.


Además de los objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección atiende a diversas aplicaciones y requisitos, lo que garantiza que tenga acceso a los materiales adecuados para sus procesos de deposición específicos.Con nuestros productos, puede mejorar la calidad, la eficiencia y el rendimiento de sus recubrimientos de película delgada.


Respaldados por nuestro compromiso con la excelencia, nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición se fabrican utilizando técnicas de última generación y cumplen con estrictas medidas de control de calidad.Esto garantiza que cada producto cumpla con los más altos estándares de la industria, brindando un rendimiento y confiabilidad excepcionales.


Asóciese con nosotros y experimente la diferencia que nuestros objetivos de pulverización catódica de óxido de hierro, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición pueden marcar en sus procesos de pulverización catódica y deposición.Confíe en nuestra experiencia y confíe en nuestros productos de calidad profesional para llevar sus recubrimientos de película delgada a nuevas alturas.

Especificaciones del óxido de hierro (Fe2O3):

tipo de material

Óxido de hierro (III)

Símbolo

Fe2O3

Color/Apariencia

Marrón rojizo, cristalino   Sólido

Punto de fusión (°C)

1.565

Densidad Teórica (g/cc)

5.24

Relación Z

**1.00

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

20*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Desproporcionado con respecto al Fe3O4 a 1.530°C.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com