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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi) de primera línea, diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria.Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad excepcionales, lo que los convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto están diseñados específicamente para ofrecer una deposición de película precisa y uniforme.Con su pureza y consistencia excepcionales, garantizan una calidad y adherencia superiores de la película, lo que da como resultado un rendimiento mejorado del producto.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer las diversas necesidades de los clientes.Nuestra amplia selección garantiza que encontrará la solución perfecta para los requisitos de su aplicación específica.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto están fabricados con materiales de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y longevidad.Cada objetivo se somete a rigurosos controles de calidad para garantizar un rendimiento superior, lo que los convierte en una opción confiable para sus procesos de deposición.
Con nuestro compromiso de brindar excelencia, priorizamos la satisfacción del cliente al brindar productos que superen las expectativas.Nuestro equipo de expertos está dedicado a ayudarlo a encontrar los materiales de deposición más adecuados para sus requisitos únicos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi) para obtener una calidad, confiabilidad y un rendimiento excepcionales.Experimente la diferencia que nuestros productos pueden marcar en sus procesos de deposición.Confíe en nuestras soluciones de nivel profesional para elevar sus resultados a nuevas alturas.
Especificaciones de objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi):
tipo de material | Bismuto |
Símbolo | Bi |
Peso atomico | 208.9804 |
Número atómico | 83 |
Color/Apariencia | Lustroso Blanco rojizo, metálico |
Conductividad térmica | 8W/mK |
Punto de fusión (°C) | 271 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 13,4 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 9.8 |
Relación Z | 0.79 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 10* |
Tipo de bono | indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C229 |
Comentarios | Resistividad alto.Los materiales de bajo punto de fusión no son ideales para la pulverización catódica. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi) de primera línea, diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria.Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad excepcionales, lo que los convierte en una opción ideal para diversas aplicaciones de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto están diseñados específicamente para ofrecer una deposición de película precisa y uniforme.Con su pureza y consistencia excepcionales, garantizan una calidad y adherencia superiores de la película, lo que da como resultado un rendimiento mejorado del producto.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer las diversas necesidades de los clientes.Nuestra amplia selección garantiza que encontrará la solución perfecta para los requisitos de su aplicación específica.
Elaborados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto están fabricados con materiales de alta calidad, lo que garantiza durabilidad y longevidad.Cada objetivo se somete a rigurosos controles de calidad para garantizar un rendimiento superior, lo que los convierte en una opción confiable para sus procesos de deposición.
Con nuestro compromiso de brindar excelencia, priorizamos la satisfacción del cliente al brindar productos que superen las expectativas.Nuestro equipo de expertos está dedicado a ayudarlo a encontrar los materiales de deposición más adecuados para sus requisitos únicos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi) para obtener una calidad, confiabilidad y un rendimiento excepcionales.Experimente la diferencia que nuestros productos pueden marcar en sus procesos de deposición.Confíe en nuestras soluciones de nivel profesional para elevar sus resultados a nuevas alturas.
Especificaciones de objetivos de pulverización catódica de bismuto (Bi):
tipo de material | Bismuto |
Símbolo | Bi |
Peso atomico | 208.9804 |
Número atómico | 83 |
Color/Apariencia | Lustroso Blanco rojizo, metálico |
Conductividad térmica | 8W/mK |
Punto de fusión (°C) | 271 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 13,4 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 9.8 |
Relación Z | 0.79 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 10* |
Tipo de bono | indio, Elastómero |
Control de Exportaciones (ECCN) | 1C229 |
Comentarios | Resistividad alto.Los materiales de bajo punto de fusión no son ideales para la pulverización catódica. |
