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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C): el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen rendimiento y confiabilidad incomparables para sus aplicaciones de recubrimiento.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C) son ideales para una amplia gama de aplicaciones, incluidos, entre otros, procesos de pulverización catódica y evaporación.Ya sea que trabaje en las industrias de semiconductores, ópticas o de películas delgadas, nuestros objetivos están diseñados para ofrecer resultados excepcionales.
Centrándose en la calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C) garantizan una deposición de película consistente y uniforme, lo que le permite lograr recubrimientos precisos y controlados.La alta pureza de nuestros objetivos garantiza impurezas mínimas, lo que le permite alcanzar las características deseadas de la película con la máxima precisión.
Nuestros objetivos de pulverización catódica no solo destacan por su rendimiento, sino que también están diseñados para ser fáciles de usar y compatibles con varios sistemas de deposición.Su excepcional conductividad térmica y estabilidad mecánica garantizan una vida útil prolongada y un tiempo de inactividad reducido, maximizando su productividad y rentabilidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de materiales de deposición confiables y de alto rendimiento.Es por eso que ofrecemos una amplia gama de productos, incluidas fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, para satisfacer sus necesidades específicas.Nuestro compromiso con la excelencia y la satisfacción del cliente se refleja en cada aspecto de nuestros productos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C) para obtener calidad, confiabilidad y rendimiento inigualables en sus aplicaciones de recubrimiento.Experimente la diferencia que nuestros materiales de deposición de calidad profesional pueden marcar para lograr los resultados deseados.Confíe en [Nombre de la empresa] para ofrecer excelencia en todo momento.
Especificaciones de carbono (grafito) (C):
tipo de material | Carbón |
Símbolo | C |
Peso atomico | 12.0107 |
Número atómico | 6 |
Color/Apariencia | Negro, no metálico |
Conductividad térmica | 140 W/mK |
Punto de fusión (°C) | ~3,652 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 7,1x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 2.25 |
Relación Z | 3.26 |
Chisporroteo | PDC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 80* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente haz de electrones.Arco evaporación.Mala adherencia de la película. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C): el epítome de la excelencia en el campo de los materiales de deposición.Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen rendimiento y confiabilidad incomparables para sus aplicaciones de recubrimiento.
Elaborados con precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C) son ideales para una amplia gama de aplicaciones, incluidos, entre otros, procesos de pulverización catódica y evaporación.Ya sea que trabaje en las industrias de semiconductores, ópticas o de películas delgadas, nuestros objetivos están diseñados para ofrecer resultados excepcionales.
Centrándose en la calidad, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito) (C) garantizan una deposición de película consistente y uniforme, lo que le permite lograr recubrimientos precisos y controlados.La alta pureza de nuestros objetivos garantiza impurezas mínimas, lo que le permite alcanzar las características deseadas de la película con la máxima precisión.
Nuestros objetivos de pulverización catódica no solo destacan por su rendimiento, sino que también están diseñados para ser fáciles de usar y compatibles con varios sistemas de deposición.Su excepcional conductividad térmica y estabilidad mecánica garantizan una vida útil prolongada y un tiempo de inactividad reducido, maximizando su productividad y rentabilidad.
En [Nombre de la empresa], entendemos la importancia de materiales de deposición confiables y de alto rendimiento.Es por eso que ofrecemos una amplia gama de productos, incluidas fuentes de evaporación y otros materiales de deposición, para satisfacer sus necesidades específicas.Nuestro compromiso con la excelencia y la satisfacción del cliente se refleja en cada aspecto de nuestros productos.
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Especificaciones de carbono (grafito) (C):
tipo de material | Carbón |
Símbolo | C |
Peso atomico | 12.0107 |
Número atómico | 6 |
Color/Apariencia | Negro, no metálico |
Conductividad térmica | 140 W/mK |
Punto de fusión (°C) | ~3,652 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 7,1x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 2.25 |
Relación Z | 3.26 |
Chisporroteo | PDC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 80* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente haz de electrones.Arco evaporación.Mala adherencia de la película. |