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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) de primera línea, la solución definitiva para todas sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Elaborados con precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Ya sea que necesite fuentes de evaporación de alta calidad u otros materiales de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) son la elección perfecta para profesionales como usted.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una pureza superior y una composición consistente.Con su excepcional conductividad térmica y excelentes propiedades eléctricas, estos objetivos garantizan resultados de deposición óptimos, lo que le permite lograr recubrimientos de película fina precisos con la máxima eficiencia.
Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) ofrecen una excelente estabilidad y durabilidad durante el proceso de pulverización catódica.Su construcción robusta garantiza un uso prolongado, lo que reduce el tiempo de inactividad y aumenta la productividad en sus aplicaciones de deposición.
Cuando se trata de materiales de deposición, entendemos la importancia de la confiabilidad y el rendimiento.Es por eso que nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) se prueban e inspeccionan meticulosamente para garantizar que cumplan con los estándares de control de calidad más estrictos.Puede confiar en que nuestros productos le brindarán constantemente resultados excepcionales, lo que le permitirá lograr las características deseadas de película delgada con precisión y exactitud.
Invierta en nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) y experimente la diferencia en sus procesos de pulverización catódica y deposición.Con sus características excepcionales y calidad de nivel profesional, estos objetivos son la elección perfecta para profesionales como usted que exigen nada más que lo mejor.Eleve sus aplicaciones de recubrimiento de película delgada a nuevas alturas con nuestros objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de primera línea.
Especificaciones de carbono (grafito pirolítico) (C)
tipo de material | Carbón |
Símbolo | C |
Peso atomico | 12.0107 |
Número atómico | 6 |
Color/Apariencia | Negro, no metálico |
Conductividad térmica | 140 W/mK |
Punto de fusión (°C) | ~3,652 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 7,1x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 2.25 |
Relación Z | 3.26 |
Chisporroteo | PDC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 80* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente haz de electrones.Arco evaporación.Mala adherencia de la película. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) de primera línea, la solución definitiva para todas sus necesidades de pulverización catódica y deposición.
Elaborados con precisión y experiencia, nuestros objetivos de pulverización catódica están diseñados para ofrecer un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Ya sea que necesite fuentes de evaporación de alta calidad u otros materiales de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) son la elección perfecta para profesionales como usted.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una pureza superior y una composición consistente.Con su excepcional conductividad térmica y excelentes propiedades eléctricas, estos objetivos garantizan resultados de deposición óptimos, lo que le permite lograr recubrimientos de película fina precisos con la máxima eficiencia.
Diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) ofrecen una excelente estabilidad y durabilidad durante el proceso de pulverización catódica.Su construcción robusta garantiza un uso prolongado, lo que reduce el tiempo de inactividad y aumenta la productividad en sus aplicaciones de deposición.
Cuando se trata de materiales de deposición, entendemos la importancia de la confiabilidad y el rendimiento.Es por eso que nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) se prueban e inspeccionan meticulosamente para garantizar que cumplan con los estándares de control de calidad más estrictos.Puede confiar en que nuestros productos le brindarán constantemente resultados excepcionales, lo que le permitirá lograr las características deseadas de película delgada con precisión y exactitud.
Invierta en nuestros objetivos de pulverización catódica de carbono (grafito pirolítico) (C) y experimente la diferencia en sus procesos de pulverización catódica y deposición.Con sus características excepcionales y calidad de nivel profesional, estos objetivos son la elección perfecta para profesionales como usted que exigen nada más que lo mejor.Eleve sus aplicaciones de recubrimiento de película delgada a nuevas alturas con nuestros objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de primera línea.
Especificaciones de carbono (grafito pirolítico) (C)
tipo de material | Carbón |
Símbolo | C |
Peso atomico | 12.0107 |
Número atómico | 6 |
Color/Apariencia | Negro, no metálico |
Conductividad térmica | 140 W/mK |
Punto de fusión (°C) | ~3,652 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 7,1x10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 2.25 |
Relación Z | 3.26 |
Chisporroteo | PDC |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 80* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Preferiblemente haz de electrones.Arco evaporación.Mala adherencia de la película. |