Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo)

Objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo)

objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo) de alta calidad, el epítome de la excelencia en materiales de deposición.Diseñados para satisfacer las demandas de la tecnología de vanguardia, nuestros objetivos de pulverización catódica están fabricados con la máxima precisión y experiencia.


Nuestros objetivos de pulverización catódica de molibdeno ofrecen un rendimiento y una durabilidad excepcionales, lo que los hace ideales para una amplia gama de aplicaciones.Ya sea que necesite deposición de películas delgadas para semiconductores, células solares o recubrimientos ópticos, nuestros objetivos de pulverización catódica brindarán resultados sobresalientes en todo momento.


Además de nuestros objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos materiales están diseñados meticulosamente para garantizar una eficiencia y uniformidad de deposición óptimas, lo que le permite lograr una calidad de película superior con un desperdicio mínimo.


Con nuestro compromiso con la calidad y la confiabilidad, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica de molibdeno brindarán constantemente un rendimiento excepcional, incluso en los procesos de deposición más exigentes.Nuestros productos se someten a rigurosas pruebas y medidas de control de calidad para garantizar que cumplan con los más altos estándares de la industria.


Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de molibdeno para sus necesidades de deposición y experimente la diferencia que pueden marcar los materiales superiores.Con nuestros productos de calidad profesional, puede mantenerse por delante de la competencia y lograr resultados notables en sus procesos de deposición de películas delgadas.


Invierta en excelencia con nuestros objetivos de pulverización catódica de molibdeno, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestros productos y cómo pueden llevar sus procesos de deposición a nuevas alturas.

Especificaciones de molibdeno (Mo):

tipo de material

Molibdeno

Símbolo

Mes

Peso atomico

95.96

Número atómico

42

Color/Apariencia

Gris, Metálico

Conductividad térmica

139 W/mK

Punto de fusión (°C)

2,617

Coeficiente de Térmico   Expansión

4,8 x 10-6/K

Densidad Teórica (g/cc)

10.2

Relación Z

0.257

Chisporroteo

corriente continua

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

150*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Películas suaves y duras.Cuidadoso   Se requiere desgasificación.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com