Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr)

Objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr)

objetivos de chisporroteo, fuentes de evaporación y otras deposiciones
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Materiales para la deposición de películas delgadas en diversas industrias, como la electrónica, la óptica y las células solares.


Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de los procesos de deposición de películas delgadas.Estos objetivos se elaboran meticulosamente utilizando técnicas de fabricación avanzadas, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.


Nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr ofrecen un rendimiento excepcional, lo que los hace ideales para aplicaciones en las industrias de electrónica, óptica y células solares.Con su excelente estabilidad térmica y conductividad eléctrica, permiten una deposición precisa y eficiente de películas delgadas.


Estos objetivos son compatibles con una amplia gama de sistemas de pulverización catódica y se pueden personalizar para satisfacer los requisitos específicos del cliente.Ofrecemos una variedad de tamaños y formas, incluidos discos, rectángulos y objetivos giratorios, para adaptarse a diferentes configuraciones de deposición.


Con nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr, puede lograr películas delgadas altamente uniformes y adherentes, garantizando una calidad y confiabilidad superiores en sus procesos de deposición.Su pureza excepcional y composición controlada garantizan resultados consistentes, reduciendo el riesgo de defectos y mejorando el rendimiento general.


Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra experiencia en deposición de películas delgadas nos permite ofrecer soluciones personalizadas para satisfacer sus requisitos únicos.


Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) para sus necesidades de deposición de películas delgadas y experimente un rendimiento, confiabilidad y precisión excepcionales.Confíe en nuestro compromiso de ofrecer productos de alta calidad que superen los estándares de la industria.

tipo de material

Nicromo IV®

Símbolo

Ni/Cr

Punto de fusión (°C)

1.395

Densidad Teórica (g/cc)

8.5

Relación Z

**1.00

Chisporroteo

corriente continua

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Aleaciones con W/Ta/Mo.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com