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Materiales para la deposición de películas delgadas en diversas industrias, como la electrónica, la óptica y las células solares.
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de los procesos de deposición de películas delgadas.Estos objetivos se elaboran meticulosamente utilizando técnicas de fabricación avanzadas, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr ofrecen un rendimiento excepcional, lo que los hace ideales para aplicaciones en las industrias de electrónica, óptica y células solares.Con su excelente estabilidad térmica y conductividad eléctrica, permiten una deposición precisa y eficiente de películas delgadas.
Estos objetivos son compatibles con una amplia gama de sistemas de pulverización catódica y se pueden personalizar para satisfacer los requisitos específicos del cliente.Ofrecemos una variedad de tamaños y formas, incluidos discos, rectángulos y objetivos giratorios, para adaptarse a diferentes configuraciones de deposición.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr, puede lograr películas delgadas altamente uniformes y adherentes, garantizando una calidad y confiabilidad superiores en sus procesos de deposición.Su pureza excepcional y composición controlada garantizan resultados consistentes, reduciendo el riesgo de defectos y mejorando el rendimiento general.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra experiencia en deposición de películas delgadas nos permite ofrecer soluciones personalizadas para satisfacer sus requisitos únicos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) para sus necesidades de deposición de películas delgadas y experimente un rendimiento, confiabilidad y precisión excepcionales.Confíe en nuestro compromiso de ofrecer productos de alta calidad que superen los estándares de la industria.
tipo de material | Nicromo IV® |
Símbolo | Ni/Cr |
Punto de fusión (°C) | 1.395 |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.5 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | corriente continua |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con W/Ta/Mo. |
Materiales para la deposición de películas delgadas en diversas industrias, como la electrónica, la óptica y las células solares.
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de los procesos de deposición de películas delgadas.Estos objetivos se elaboran meticulosamente utilizando técnicas de fabricación avanzadas, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr ofrecen un rendimiento excepcional, lo que los hace ideales para aplicaciones en las industrias de electrónica, óptica y células solares.Con su excelente estabilidad térmica y conductividad eléctrica, permiten una deposición precisa y eficiente de películas delgadas.
Estos objetivos son compatibles con una amplia gama de sistemas de pulverización catódica y se pueden personalizar para satisfacer los requisitos específicos del cliente.Ofrecemos una variedad de tamaños y formas, incluidos discos, rectángulos y objetivos giratorios, para adaptarse a diferentes configuraciones de deposición.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de NiCr, puede lograr películas delgadas altamente uniformes y adherentes, garantizando una calidad y confiabilidad superiores en sus procesos de deposición.Su pureza excepcional y composición controlada garantizan resultados consistentes, reduciendo el riesgo de defectos y mejorando el rendimiento general.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra experiencia en deposición de películas delgadas nos permite ofrecer soluciones personalizadas para satisfacer sus requisitos únicos.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel-cromo (NiCr) para sus necesidades de deposición de películas delgadas y experimente un rendimiento, confiabilidad y precisión excepcionales.Confíe en nuestro compromiso de ofrecer productos de alta calidad que superen los estándares de la industria.
tipo de material | Nicromo IV® |
Símbolo | Ni/Cr |
Punto de fusión (°C) | 1.395 |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.5 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | corriente continua |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Aleaciones con W/Ta/Mo. |