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Materiales para uso en procesos de deposición física de vapor (PVD).Fabricados con materiales de níquel hierro (NiFe) de alta pureza, estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel hierro (NiFe) están meticulosamente diseñados para cumplir con los estrictos requisitos de las industrias avanzadas de semiconductores, recubrimientos ópticos y almacenamiento magnético.Con su excelente estabilidad térmica, composición uniforme y baja densidad de defectos, estos objetivos garantizan una deposición consistente de la película, lo que da como resultado películas delgadas de alta calidad con adhesión y densidad de película superiores.
Estos objetivos de pulverización catódica son compatibles con una amplia gama de sistemas de deposición y se pueden utilizar para técnicas de pulverización catódica tanto de CC como de RF.Su pureza excepcional y estructura de grano controlada permiten un control preciso sobre las propiedades de la película, como el espesor, la composición y la morfología.Esto los hace ideales para aplicaciones en memoria magnetorresistiva de acceso aleatorio (MRAM), dispositivos de magnetorresistencia gigante (GMR) y otras tecnologías de película delgada magnética.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos incluyen crisoles, botes y láminas, todos diseñados para facilitar la deposición de películas delgadas de alta calidad con excelente uniformidad y reproducibilidad.
Con nuestros materiales de deposición y objetivos de pulverización catódica de níquel hierro (NiFe), puede lograr un control preciso sobre las propiedades de la película, mejorar el rendimiento del dispositivo y mejorar la eficiencia general de sus procesos de deposición de películas delgadas.Confíe en nuestros productos de alta calidad para brindarle la confiabilidad y el rendimiento que necesita para sus aplicaciones avanzadas de película delgada.
Especificaciones de níquel hierro (Ni/Fe):
tipo de material | Níquel/Hierro † |
Símbolo | Ni/Fe |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.7 |
Ferromagnético | Material magnético |
Relación Z | **1.00 |
Materiales para uso en procesos de deposición física de vapor (PVD).Fabricados con materiales de níquel hierro (NiFe) de alta pureza, estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para proporcionar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de níquel hierro (NiFe) están meticulosamente diseñados para cumplir con los estrictos requisitos de las industrias avanzadas de semiconductores, recubrimientos ópticos y almacenamiento magnético.Con su excelente estabilidad térmica, composición uniforme y baja densidad de defectos, estos objetivos garantizan una deposición consistente de la película, lo que da como resultado películas delgadas de alta calidad con adhesión y densidad de película superiores.
Estos objetivos de pulverización catódica son compatibles con una amplia gama de sistemas de deposición y se pueden utilizar para técnicas de pulverización catódica tanto de CC como de RF.Su pureza excepcional y estructura de grano controlada permiten un control preciso sobre las propiedades de la película, como el espesor, la composición y la morfología.Esto los hace ideales para aplicaciones en memoria magnetorresistiva de acceso aleatorio (MRAM), dispositivos de magnetorresistencia gigante (GMR) y otras tecnologías de película delgada magnética.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos incluyen crisoles, botes y láminas, todos diseñados para facilitar la deposición de películas delgadas de alta calidad con excelente uniformidad y reproducibilidad.
Con nuestros materiales de deposición y objetivos de pulverización catódica de níquel hierro (NiFe), puede lograr un control preciso sobre las propiedades de la película, mejorar el rendimiento del dispositivo y mejorar la eficiencia general de sus procesos de deposición de películas delgadas.Confíe en nuestros productos de alta calidad para brindarle la confiabilidad y el rendimiento que necesita para sus aplicaciones avanzadas de película delgada.
Especificaciones de níquel hierro (Ni/Fe):
tipo de material | Níquel/Hierro † |
Símbolo | Ni/Fe |
Densidad Teórica (g/cc) | 8.7 |
Ferromagnético | Material magnético |
Relación Z | **1.00 |
