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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversas industrias.Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente elaborados para proporcionar un rendimiento excepcional en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd) se fabrican utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una composición y pureza precisas.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para ofrecer resultados consistentes y confiables, lo que los hace ideales para una amplia gama de aplicaciones.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd), puede lograr una deposición precisa de películas delgadas en diversas industrias, incluido el almacenamiento de semiconductores, óptico y magnético.Estos objetivos están diseñados específicamente para procesos de pulverización catódica y evaporación, proporcionando una excelente adhesión y uniformidad de la película.
Además de los objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd), también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia cartera de productos garantiza que usted tenga acceso a todos los materiales necesarios para sus necesidades de deposición de películas delgadas.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd) por su calidad, confiabilidad y rendimiento excepcionales.Con nuestro compromiso con la excelencia, puede confiar en que nuestros productos lo ayudarán a lograr los resultados deseados en sus procesos de deposición de películas delgadas.Experimente la diferencia de nuestros objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición de calidad profesional.
Especificaciones de neodimio (Nd):
tipo de material | Neodimio |
Símbolo | Dakota del Norte |
Peso atomico | 144.242 |
Número atómico | 60 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, amarillento Matiz, Metálico |
Conductividad térmica | 17 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.021 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 9,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 7.01 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 30* |
Un numero | 2813 |
Comentarios | Solubilidad baja en W. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversas industrias.Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente elaborados para proporcionar un rendimiento excepcional en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd) se fabrican utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una composición y pureza precisas.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para ofrecer resultados consistentes y confiables, lo que los hace ideales para una amplia gama de aplicaciones.
Con nuestros objetivos de pulverización catódica de neodimio (Nd), puede lograr una deposición precisa de películas delgadas en diversas industrias, incluido el almacenamiento de semiconductores, óptico y magnético.Estos objetivos están diseñados específicamente para procesos de pulverización catódica y evaporación, proporcionando una excelente adhesión y uniformidad de la película.
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Especificaciones de neodimio (Nd):
tipo de material | Neodimio |
Símbolo | Dakota del Norte |
Peso atomico | 144.242 |
Número atómico | 60 |
Color/Apariencia | Blanco plateado, amarillento Matiz, Metálico |
Conductividad térmica | 17 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.021 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 9,6 x 10-6/K |
Densidad Teórica (g/cc) | 7.01 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | corriente continua |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 30* |
Un numero | 2813 |
Comentarios | Solubilidad baja en W. |
