| Cantidad: | |
|---|---|
TN
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio (Si3N4) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición precisas.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para ofrecer un rendimiento excepcional y garantizar resultados óptimos en diversas aplicaciones de pulverización catódica.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio están diseñados específicamente para proporcionar una solución confiable y eficiente para sus procesos de deposición de películas delgadas.Con su pureza superior y excelente estabilidad térmica, estos objetivos garantizan un crecimiento de película constante y uniforme, lo que le permite lograr las propiedades deseadas de película fina con la máxima precisión.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección garantiza que usted tenga acceso a los materiales de la más alta calidad necesarios para sus técnicas de deposición, lo que le permitirá adaptar sus procesos para satisfacer las demandas específicas de sus aplicaciones.
Con nuestro compromiso de ofrecer solo los mejores productos, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Además, nuestro equipo de expertos está disponible para brindar soporte técnico y orientación, asegurando una integración perfecta de nuestros productos en sus procesos de deposición.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para obtener un rendimiento, consistencia y confiabilidad incomparables.Experimente la diferencia en sus técnicas de deposición de películas delgadas con nuestros productos de primera línea.
Especificaciones del nitruro de silicio (Si3N4):
tipo de material | Nitrido de silicona |
Símbolo | Si3N4 |
Color/Apariencia | Blanco a gris o gris oscuro a negro, sólido cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.900 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.44 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
tipo de material | Nitrido de silicona |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio (Si3N4) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de deposición precisas.Estos objetivos están meticulosamente diseñados para ofrecer un rendimiento excepcional y garantizar resultados óptimos en diversas aplicaciones de pulverización catódica.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio están diseñados específicamente para proporcionar una solución confiable y eficiente para sus procesos de deposición de películas delgadas.Con su pureza superior y excelente estabilidad térmica, estos objetivos garantizan un crecimiento de película constante y uniforme, lo que le permite lograr las propiedades deseadas de película fina con la máxima precisión.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección garantiza que usted tenga acceso a los materiales de la más alta calidad necesarios para sus técnicas de deposición, lo que le permitirá adaptar sus procesos para satisfacer las demandas específicas de sus aplicaciones.
Con nuestro compromiso de ofrecer solo los mejores productos, nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento y una confiabilidad excepcionales.Además, nuestro equipo de expertos está disponible para brindar soporte técnico y orientación, asegurando una integración perfecta de nuestros productos en sus procesos de deposición.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de nitruro de silicio, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para obtener un rendimiento, consistencia y confiabilidad incomparables.Experimente la diferencia en sus técnicas de deposición de películas delgadas con nuestros productos de primera línea.
Especificaciones del nitruro de silicio (Si3N4):
tipo de material | Nitrido de silicona |
Símbolo | Si3N4 |
Color/Apariencia | Blanco a gris o gris oscuro a negro, sólido cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.900 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.44 |
Relación Z | **1.00 |
Chisporroteo | RF, RF-R |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
tipo de material | Nitrido de silicona |
