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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt), el epítome de la excelencia en el mundo de la deposición de películas delgadas.Elaborados con la máxima precisión y tecnología de vanguardia, estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para satisfacer las demandas incluso de las aplicaciones más complejas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt) no son sólo meros materiales;son los pilares de la innovación.Con una pureza y uniformidad excepcionales, estos objetivos permiten un control preciso sobre el espesor, la composición y la morfología de la película.Ya sea que esté trabajando en dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos o medios de almacenamiento magnéticos, nuestros objetivos de pulverización catódica garantizan un rendimiento y una reproducibilidad excepcionales.
Pero nuestro compromiso con la excelencia no se limita a los objetivos de pulverización catódica de platino (Pt).Ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer sus diversas necesidades.Desde metales de alta pureza hasta aleaciones y compuestos, nuestra cartera de productos está diseñada para brindarle la máxima flexibilidad y confiabilidad en sus procesos de deposición de películas delgadas.
Cuando se trata de deposición de películas finas, la precisión es primordial.Es por eso que nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento constante y resultados excepcionales.Respaldados por nuestras instalaciones de fabricación de última generación y un equipo de expertos, garantizamos productos que cumplen con los más altos estándares de la industria.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt) y experimente la cima de la calidad y el rendimiento en la deposición de películas delgadas.Confíe en nuestra experiencia y permítanos ser su socio para ampliar los límites de la innovación.
Especificaciones de platino (PT):
tipo de material | Platino |
Símbolo | punto |
Peso atomico | 195.084 |
Número atómico | 78 |
Color/Apariencia | Gris metalizado |
Conductividad térmica | 72 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.772 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 8,8 x 10-6/K |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt), el epítome de la excelencia en el mundo de la deposición de películas delgadas.Elaborados con la máxima precisión y tecnología de vanguardia, estos objetivos de pulverización catódica están diseñados para satisfacer las demandas incluso de las aplicaciones más complejas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt) no son sólo meros materiales;son los pilares de la innovación.Con una pureza y uniformidad excepcionales, estos objetivos permiten un control preciso sobre el espesor, la composición y la morfología de la película.Ya sea que esté trabajando en dispositivos semiconductores, recubrimientos ópticos o medios de almacenamiento magnéticos, nuestros objetivos de pulverización catódica garantizan un rendimiento y una reproducibilidad excepcionales.
Pero nuestro compromiso con la excelencia no se limita a los objetivos de pulverización catódica de platino (Pt).Ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para satisfacer sus diversas necesidades.Desde metales de alta pureza hasta aleaciones y compuestos, nuestra cartera de productos está diseñada para brindarle la máxima flexibilidad y confiabilidad en sus procesos de deposición de películas delgadas.
Cuando se trata de deposición de películas finas, la precisión es primordial.Es por eso que nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición se someten a rigurosas medidas de control de calidad para garantizar un rendimiento constante y resultados excepcionales.Respaldados por nuestras instalaciones de fabricación de última generación y un equipo de expertos, garantizamos productos que cumplen con los más altos estándares de la industria.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de platino (Pt) y experimente la cima de la calidad y el rendimiento en la deposición de películas delgadas.Confíe en nuestra experiencia y permítanos ser su socio para ampliar los límites de la innovación.
Especificaciones de platino (PT):
tipo de material | Platino |
Símbolo | punto |
Peso atomico | 195.084 |
Número atómico | 78 |
Color/Apariencia | Gris metalizado |
Conductividad térmica | 72 W/mK |
Punto de fusión (°C) | 1.772 |
Coeficiente de Térmico Expansión | 8,8 x 10-6/K |
