Usted está aquí: Hogar / Productos / Objetivo de chisporroteo / Objetivos de pulverización catódica de silicio (Si)

Objetivos de pulverización catódica de silicio (Si)

objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición
Estado de Disponibilidad:
Cantidad:
facebook sharing button
twitter sharing button
line sharing button
wechat sharing button
linkedin sharing button
pinterest sharing button
whatsapp sharing button
sharethis sharing button
  • TN

Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio (Si): el epítome de la excelencia en objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Elaborados con la máxima precisión y diseñados para cumplir con los más altos estándares de la industria, nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio son la opción ideal para sus procesos de deposición de películas delgadas.


Nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio se fabrican utilizando tecnología de última generación, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.Con un tono de voz profesional, garantizamos que nuestros productos brindarán un rendimiento consistente y confiable, lo que los hace perfectos para una amplia gama de aplicaciones.


Con una durabilidad incomparable, nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio están diseñados para soportar un uso riguroso, lo que garantiza un rendimiento duradero y minimiza el tiempo de inactividad.Su excepcional conductividad térmica y su alto punto de fusión los hacen altamente eficientes e ideales para diversas técnicas de deposición, incluida la pulverización catódica con magnetrón y la evaporación térmica.


Nuestro compromiso con la calidad se refleja en cada aspecto de nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio.Controlamos minuciosamente el proceso de fabricación para garantizar una pureza excepcional, asegurando el mínimo de impurezas y defectos.Las dimensiones precisas y el acabado superficial de nuestros objetivos permiten una deposición óptima de la película, lo que da como resultado una calidad superior de película fina.


Ya sea que trabaje en la industria de semiconductores, recubrimientos ópticos o células solares, nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio son la elección perfecta para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Confíe en nuestros productos de calidad profesional para mejorar sus procesos de fabricación y lograr resultados sobresalientes.


Invierta hoy en nuestros objetivos de pulverización catódica de silicio y experimente el pináculo de la excelencia en objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Contáctenos ahora para analizar sus requisitos y descubrir cómo nuestros productos pueden revolucionar sus procesos de deposición de películas delgadas.

Especificaciones de silicio (Si):

tipo de material

Silicio

Símbolo

Si

Peso atomico

28.0855

Número atómico

14

Color/Apariencia

Gris oscuro con un tono azulado.   Matiz, semimetálico

Conductividad térmica

150 W/mK

Punto de fusión (°C)

1.410

Resistividad masiva

>1 OHMIO-CM

Coeficiente de Térmico   Expansión

2,6 x 10-6/K

Densidad Teórica (g/cc)

2.32

dopante

sin dopar

Relación Z

0.712

Chisporroteo

RF

Densidad de potencia máxima

(vatios/pulgada cuadrada)

20*

Tipo de bono

Indio, Elastómero

Comentarios

Aleaciones con W;usar W pesado   bote.SiO producido.


Anterior: 
Siguiente: 
CONSULTA DE PRODUCTO
Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.
Que es un fabricante especializado en la producción de instrumentos científicos de laboratorio.Nuestros productos se utilizan ampliamente en universidades, instituciones de investigación y laboratorios.

ENLACES RÁPIDOS

CONTÁCTENOS

+86-371-5536-5392
+86-185-3800-8121
Habitación 401, 4.º piso, edificio 5, ciudad nueva tecnológica de Zhengzhou Yida, calle Jinzhan, zona de alta tecnología, ciudad de Zhengzhou
Derechos de autor © 2023 Zhengzhou Tainuo Thin Film Materials Co., Ltd.|Con apoyo de leadong.com