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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos confiables y eficientes para sus necesidades de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2) están diseñados específicamente para proporcionar un rendimiento excelente en una amplia gama de aplicaciones, incluida la deposición de películas delgadas, la fabricación de semiconductores y el recubrimiento óptico.Estos objetivos están diseñados para ofrecer una deposición de material precisa y controlada, lo que le permite lograr una calidad y uniformidad de película superiores.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están cuidadosamente elaborados para brindar un rendimiento constante y confiable, lo que le permitirá optimizar sus procesos de deposición y lograr los resultados deseados.
Con nuestro compromiso con el profesionalismo, nos aseguramos de que nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros productos pasan por rigurosas medidas de control de calidad, garantizando su durabilidad y rendimiento.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para su próximo proyecto de deposición y experimente la diferencia en calidad y eficiencia.Confíe en nuestra experiencia y dedicación para ofrecer productos de primer nivel que contribuyan a su éxito en el campo de la deposición de películas delgadas.
Especificaciones del siliciuro de cromo (CrSi2):
tipo de material | Siliciuro de cromo |
Símbolo | CrSi2 |
Punto de fusión (°C) | 1.490 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.5 |
Chisporroteo | RF |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que garantiza una pureza y uniformidad excepcionales.Con un tono de voz profesional, nos enorgullecemos de ofrecer productos confiables y eficientes para sus necesidades de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2) están diseñados específicamente para proporcionar un rendimiento excelente en una amplia gama de aplicaciones, incluida la deposición de películas delgadas, la fabricación de semiconductores y el recubrimiento óptico.Estos objetivos están diseñados para ofrecer una deposición de material precisa y controlada, lo que le permite lograr una calidad y uniformidad de película superiores.
Además de los objetivos de pulverización catódica, también ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Estos productos están cuidadosamente elaborados para brindar un rendimiento constante y confiable, lo que le permitirá optimizar sus procesos de deposición y lograr los resultados deseados.
Con nuestro compromiso con el profesionalismo, nos aseguramos de que nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición cumplan con los más altos estándares de la industria.Nuestros productos pasan por rigurosas medidas de control de calidad, garantizando su durabilidad y rendimiento.
Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de siliciuro de cromo (CrSi2), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para su próximo proyecto de deposición y experimente la diferencia en calidad y eficiencia.Confíe en nuestra experiencia y dedicación para ofrecer productos de primer nivel que contribuyan a su éxito en el campo de la deposición de películas delgadas.
Especificaciones del siliciuro de cromo (CrSi2):
tipo de material | Siliciuro de cromo |
Símbolo | CrSi2 |
Punto de fusión (°C) | 1.490 |
Densidad Teórica (g/cc) | 5.5 |
Chisporroteo | RF |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
