| Cantidad: | |
|---|---|
TN
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una pureza y uniformidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para ofrecer un rendimiento excepcional en aplicaciones de pulverización catódica, asegurando una deposición precisa y eficiente.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección le permite encontrar los materiales perfectos para sus necesidades específicas de deposición, ya sea para recubrimientos de película delgada, aplicaciones ópticas o fabricación de dispositivos semiconductores.
Con nuestro compromiso con la calidad, la confiabilidad y la satisfacción del cliente, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica y materiales de deposición de sulfuro de zinc (ZnS) brindarán resultados excepcionales de manera constante.Elija nuestros productos para mejorar el rendimiento y la eficiencia de sus procesos de deposición.
Invierta en excelencia.Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para todos sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Especificaciones del sulfuro de zinc (ZnS):
tipo de material | Sulfuro de zinc |
Símbolo | ZnS |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.98 |
Relación Z | 0.775 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Precaliente suavemente para desgasificar. Las películas se descomponen parcialmente.n=2,356. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) de alta calidad, diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de diversos procesos de deposición.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS) se fabrican meticulosamente utilizando técnicas avanzadas, lo que da como resultado una pureza y uniformidad excepcionales.Estos objetivos están diseñados específicamente para ofrecer un rendimiento excepcional en aplicaciones de pulverización catódica, asegurando una deposición precisa y eficiente.
Además de los objetivos de pulverización catódica, ofrecemos una amplia gama de fuentes de evaporación y otros materiales de deposición.Nuestra amplia selección le permite encontrar los materiales perfectos para sus necesidades específicas de deposición, ya sea para recubrimientos de película delgada, aplicaciones ópticas o fabricación de dispositivos semiconductores.
Con nuestro compromiso con la calidad, la confiabilidad y la satisfacción del cliente, puede confiar en que nuestros objetivos de pulverización catódica y materiales de deposición de sulfuro de zinc (ZnS) brindarán resultados excepcionales de manera constante.Elija nuestros productos para mejorar el rendimiento y la eficiencia de sus procesos de deposición.
Invierta en excelencia.Elija nuestros objetivos de pulverización catódica de sulfuro de zinc (ZnS), fuentes de evaporación y otros materiales de deposición para todos sus requisitos de recubrimiento de película delgada.
Especificaciones del sulfuro de zinc (ZnS):
tipo de material | Sulfuro de zinc |
Símbolo | ZnS |
Color/Apariencia | Blanco, Sólido Cristalino |
Punto de fusión (°C) | 1.700 |
Densidad Teórica (g/cc) | 3.98 |
Relación Z | 0.775 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Indio, Elastómero |
Comentarios | Precaliente suavemente para desgasificar. Las películas se descomponen parcialmente.n=2,356. |
