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Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de materiales de deposición.
Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones.Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación o cualquier otro material de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) son la elección perfecta.
Fabricados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen excelente uniformidad, pureza y durabilidad.Con su composición de nivel profesional, garantizan resultados óptimos en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) están diseñados para ofrecer propiedades eléctricas y ópticas superiores, lo que los hace ideales para aplicaciones en semiconductores, electrónica y recubrimientos ópticos.Su excepcional estabilidad térmica garantiza un rendimiento constante incluso en condiciones exigentes.
Además, nuestros productos se someten a rigurosas medidas de control de calidad para cumplir con los más altos estándares de la industria.Cada objetivo de pulverización catódica se inspecciona cuidadosamente para garantizar superficies impecables y dimensiones precisas, lo que garantiza una integración perfecta en sus sistemas de deposición.
Con nuestro compromiso de proporcionar materiales de deposición de primera calidad, puede confiar en nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) para mejorar sus procesos de deposición de películas delgadas.Experimente la confiabilidad y eficiencia que ofrecen nuestros productos de calidad profesional.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) y cómo pueden llevar sus procesos de deposición a nuevas alturas.
Especificaciones de los objetivos de farfulla de titanato de bario (BaTiO3):
tipo de material | Titanato de bario |
Símbolo | BaTiO3 |
Punto de fusión (°C) | 1.625 |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.02 |
Relación Z | 0.464 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Elastómero |
Comentarios | Da Ba. Co-evap y Sputter OK. |
Presentamos nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) de alta calidad, diseñados para satisfacer sus necesidades de materiales de deposición.
Estos objetivos de pulverización catódica están meticulosamente diseñados para garantizar un rendimiento y confiabilidad excepcionales en diversas aplicaciones.Ya sea que necesite objetivos de pulverización catódica, fuentes de evaporación o cualquier otro material de deposición, nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) son la elección perfecta.
Fabricados con la máxima precisión, nuestros objetivos de pulverización catódica ofrecen excelente uniformidad, pureza y durabilidad.Con su composición de nivel profesional, garantizan resultados óptimos en procesos de deposición de películas delgadas.
Nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) están diseñados para ofrecer propiedades eléctricas y ópticas superiores, lo que los hace ideales para aplicaciones en semiconductores, electrónica y recubrimientos ópticos.Su excepcional estabilidad térmica garantiza un rendimiento constante incluso en condiciones exigentes.
Además, nuestros productos se someten a rigurosas medidas de control de calidad para cumplir con los más altos estándares de la industria.Cada objetivo de pulverización catódica se inspecciona cuidadosamente para garantizar superficies impecables y dimensiones precisas, lo que garantiza una integración perfecta en sus sistemas de deposición.
Con nuestro compromiso de proporcionar materiales de deposición de primera calidad, puede confiar en nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) para mejorar sus procesos de deposición de películas delgadas.Experimente la confiabilidad y eficiencia que ofrecen nuestros productos de calidad profesional.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestros objetivos de pulverización catódica de titanato de bario (BaTiO3) y cómo pueden llevar sus procesos de deposición a nuevas alturas.
Especificaciones de los objetivos de farfulla de titanato de bario (BaTiO3):
tipo de material | Titanato de bario |
Símbolo | BaTiO3 |
Punto de fusión (°C) | 1.625 |
Densidad Teórica (g/cc) | 6.02 |
Relación Z | 0.464 |
Chisporroteo | RF |
Densidad de potencia máxima (vatios/pulgada cuadrada) | 20* |
Tipo de bono | Elastómero |
Comentarios | Da Ba. Co-evap y Sputter OK. |
