| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSP500S-2DC
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo está equipado con una mesa de medición del espesor de la película diseñada específicamente para aplicaciones de semiconductores.Este recubridor de escritorio ofrece capacidades de pulverización catódica precisas y eficientes, lo que lo convierte en una opción ideal para laboratorios de investigación y desarrollo en la industria de semiconductores.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo está diseñado para cumplir con los exigentes requisitos de la deposición de películas semiconductoras.Permite la preparación de películas monocapa o multicapa de alta calidad con excelente uniformidad y adhesión.Este recubridor es capaz de depositar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras, películas de aleaciones y películas compuestas, lo que proporciona a los investigadores una herramienta versátil para sus necesidades de caracterización y síntesis de materiales.
Equipada con una mesa de medición del espesor de la película, esta recubridora permite un seguimiento y control precisos del espesor de la película durante el proceso de deposición.Esto es particularmente crucial en aplicaciones de semiconductores, donde el espesor preciso de la película es esencial para el rendimiento del dispositivo.La tabla de calibres permite a los investigadores lograr el espesor de película deseado con alta precisión y repetibilidad, lo que garantiza resultados consistentes y facilita la optimización de las propiedades de la película.
El diseño de escritorio de este recubridor lo hace compacto y ahorra espacio, lo que lo hace adecuado para laboratorios con espacio limitado.A pesar de su pequeño tamaño, ofrece potentes capacidades de pulverización catódica, gracias a la configuración del magnetrón CC de doble objetivo.Esto permite una deposición eficiente y uniforme de películas, lo que da como resultado recubrimientos de alta calidad con excelentes propiedades eléctricas y ópticas.
Con su rendimiento profesional y confiable, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo de escritorio con mesa de medición del espesor de película es una herramienta indispensable para la investigación y el desarrollo de semiconductores.Permite a los investigadores explorar nuevos materiales, optimizar las propiedades de las películas y avanzar en el desarrollo de dispositivos semiconductores de vanguardia.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | fuente de alimentación×2 fuente de alimentación: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo está equipado con una mesa de medición del espesor de la película diseñada específicamente para aplicaciones de semiconductores.Este recubridor de escritorio ofrece capacidades de pulverización catódica precisas y eficientes, lo que lo convierte en una opción ideal para laboratorios de investigación y desarrollo en la industria de semiconductores.
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo está diseñado para cumplir con los exigentes requisitos de la deposición de películas semiconductoras.Permite la preparación de películas monocapa o multicapa de alta calidad con excelente uniformidad y adhesión.Este recubridor es capaz de depositar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras, películas de aleaciones y películas compuestas, lo que proporciona a los investigadores una herramienta versátil para sus necesidades de caracterización y síntesis de materiales.
Equipada con una mesa de medición del espesor de la película, esta recubridora permite un seguimiento y control precisos del espesor de la película durante el proceso de deposición.Esto es particularmente crucial en aplicaciones de semiconductores, donde el espesor preciso de la película es esencial para el rendimiento del dispositivo.La tabla de calibres permite a los investigadores lograr el espesor de película deseado con alta precisión y repetibilidad, lo que garantiza resultados consistentes y facilita la optimización de las propiedades de la película.
El diseño de escritorio de este recubridor lo hace compacto y ahorra espacio, lo que lo hace adecuado para laboratorios con espacio limitado.A pesar de su pequeño tamaño, ofrece potentes capacidades de pulverización catódica, gracias a la configuración del magnetrón CC de doble objetivo.Esto permite una deposición eficiente y uniforme de películas, lo que da como resultado recubrimientos de alta calidad con excelentes propiedades eléctricas y ópticas.
Con su rendimiento profesional y confiable, el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo de escritorio con mesa de medición del espesor de película es una herramienta indispensable para la investigación y el desarrollo de semiconductores.Permite a los investigadores explorar nuevos materiales, optimizar las propiedades de las películas y avanzar en el desarrollo de dispositivos semiconductores de vanguardia.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | fuente de alimentación×2 fuente de alimentación: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
