| Cantidad: | |
|---|---|
TN-MSP180S-DC-AR
TN
Este equipo es un recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo y está equipado con una cavidad de cuarzo, que garantiza una alta pureza y uniformidad de las películas depositadas.Este recubridor utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite un control preciso del espesor y la composición de la película.Es particularmente adecuado para aplicaciones de recubrimiento de metales nobles, proporcionando excelente adherencia y durabilidad.Con su diseño de objetivo desplazado, esta recubridora ofrece una mayor eficiencia de deposición y una reducción del desperdicio de material.Su interfaz fácil de usar y su sistema de control avanzado permiten una operación sencilla y un ajuste preciso de los parámetros.El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único compensado con cavidad de cuarzo es una solución confiable y eficiente para diversas necesidades de recubrimiento de película delgada en entornos industriales y de investigación.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Etapa de muestra | Tamaño | Φ60mm | Velocidad de rotación | 0-20 ajustable |
Objetivo de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'x1 | ||
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ180mm x 150mm | Ventana de observación | Visibilidad omnidireccional |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza | Apertura método | Cubierta superior extraíble | |
Brida inferior | Incluye mecanismo de inclinación de la mesa de muestra y mecanismo de rotación | |||
Sistema de vacío | bomba mecanica | Bomba de paletas rotativa de dos etapas | Interfaz de bombeo | KF16 |
bomba molecular | bomba turbomolecular | Interfaz de bombeo | KF40 | |
Medición de vacío | Medidor de resistencia + medidor de ionización | Interfaz de escape | KF40 | |
Vacío definitivo | 1.0E-3Pa | Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba de respaldo: 1,1 L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x1 | Potencia máxima de salida | Fuente de alimentación CC 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | Dimensions | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Poder total | 2kW | |||
Este equipo es un recubridor por pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo y está equipado con una cavidad de cuarzo, que garantiza una alta pureza y uniformidad de las películas depositadas.Este recubridor utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón, lo que permite un control preciso del espesor y la composición de la película.Es particularmente adecuado para aplicaciones de recubrimiento de metales nobles, proporcionando excelente adherencia y durabilidad.Con su diseño de objetivo desplazado, esta recubridora ofrece una mayor eficiencia de deposición y una reducción del desperdicio de material.Su interfaz fácil de usar y su sistema de control avanzado permiten una operación sencilla y un ajuste preciso de los parámetros.El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único compensado con cavidad de cuarzo es una solución confiable y eficiente para diversas necesidades de recubrimiento de película delgada en entornos industriales y de investigación.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Etapa de muestra | Tamaño | Φ60mm | Velocidad de rotación | 0-20 ajustable |
Objetivo de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'x1 | ||
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ180mm x 150mm | Ventana de observación | Visibilidad omnidireccional |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza | Apertura método | Cubierta superior extraíble | |
Brida inferior | Incluye mecanismo de inclinación de la mesa de muestra y mecanismo de rotación | |||
Sistema de vacío | bomba mecanica | Bomba de paletas rotativa de dos etapas | Interfaz de bombeo | KF16 |
bomba molecular | bomba turbomolecular | Interfaz de bombeo | KF40 | |
Medición de vacío | Medidor de resistencia + medidor de ionización | Interfaz de escape | KF40 | |
Vacío definitivo | 1.0E-3Pa | Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba de respaldo: 1,1 L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x1 | Potencia máxima de salida | Fuente de alimentación CC 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | Dimensions | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Poder total | 2kW | |||
