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TN-MSP500S-2DC
TN
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas de aleación: la solución definitiva para todas sus necesidades de recubrimiento de película delgada.Diseñado teniendo en cuenta la precisión y la eficiencia, este recubridor de vanguardia es perfecto para preparar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con su tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, este recubridor garantiza una uniformidad de recubrimiento y un control de deposición excepcionales, lo que le permite lograr las propiedades de película deseadas con la máxima precisión.Ya sea que necesite un espesor uniforme, una alta adhesión o una conductividad superior, nuestra recubridora ofrece resultados sobresalientes en todo momento.
Equipada con funciones avanzadas, esta recubridora ofrece una versatilidad incomparable.Su configuración de doble objetivo permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que permite la creación de películas de aleación complejas con propiedades personalizadas.Esta flexibilidad abre infinitas posibilidades para la investigación y el desarrollo en diversos campos, incluidos la electrónica, la óptica y la ciencia de los materiales.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo cuenta con una interfaz fácil de usar, lo que facilita su operación incluso para quienes son nuevos en la deposición de películas delgadas.El panel de control intuitivo permite un ajuste preciso de parámetros como la tasa de deposición, la temperatura del sustrato y el flujo de gas, lo que garantiza condiciones de recubrimiento óptimas para sus aplicaciones específicas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC×2 Alimentación CC suministro: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
Presentamos nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas de aleación: la solución definitiva para todas sus necesidades de recubrimiento de película delgada.Diseñado teniendo en cuenta la precisión y la eficiencia, este recubridor de vanguardia es perfecto para preparar películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con su tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, este recubridor garantiza una uniformidad de recubrimiento y un control de deposición excepcionales, lo que le permite lograr las propiedades de película deseadas con la máxima precisión.Ya sea que necesite un espesor uniforme, una alta adhesión o una conductividad superior, nuestra recubridora ofrece resultados sobresalientes en todo momento.
Equipada con funciones avanzadas, esta recubridora ofrece una versatilidad incomparable.Su configuración de doble objetivo permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que permite la creación de películas de aleación complejas con propiedades personalizadas.Esta flexibilidad abre infinitas posibilidades para la investigación y el desarrollo en diversos campos, incluidos la electrónica, la óptica y la ciencia de los materiales.
Nuestro recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo cuenta con una interfaz fácil de usar, lo que facilita su operación incluso para quienes son nuevos en la deposición de películas delgadas.El panel de control intuitivo permite un ajuste preciso de parámetros como la tasa de deposición, la temperatura del sustrato y el flujo de gas, lo que garantiza condiciones de recubrimiento óptimas para sus aplicaciones específicas.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC×2 Alimentación CC suministro: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
