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TN-MSP300S-2DC
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas delgadas ferroeléctricas multicapa es una solución altamente avanzada y eficiente para la preparación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.Este recubridor de última generación utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, lo que garantiza una deposición precisa y uniforme de las películas.
Con sus capacidades versátiles, esta recubridora es ideal para diversas aplicaciones en los campos de la electrónica, la ciencia de los materiales y la investigación.Ya sea que necesite crear estructuras multicapa complejas o películas de una sola capa, esta recubridora garantiza resultados excepcionales con su rendimiento y confiabilidad superiores.
La función de doble objetivo permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que permite la creación de intrincadas estructuras multicapa con facilidad.Esta flexibilidad abre un mundo de posibilidades para investigadores y científicos, ya que pueden explorar y experimentar con diversas combinaciones y composiciones de materiales.
Equipada con tecnología de última generación, esta recubridora garantiza una excelente calidad, uniformidad y control del espesor de la película.Su avanzado sistema de control permite un ajuste preciso de los parámetros de deposición, asegurando reproducibilidad y precisión en cada experimento o ejecución de producción.
Además de su rendimiento excepcional, esta recubridora cuenta con una interfaz fácil de usar, lo que facilita su operación y control.Su diseño intuitivo y sus completas funciones de seguridad garantizan un entorno de trabajo seguro y sin complicaciones.
Invertir en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas delgadas ferroeléctricas multicapa es una buena elección para los profesionales que buscan una solución confiable y eficiente para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Con sus características avanzadas, rendimiento superior y construcción de nivel profesional, esta recubridora es un activo valioso para cualquier laboratorio o instalación de investigación.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC×2 Alimentación CC suministro: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas delgadas ferroeléctricas multicapa es una solución altamente avanzada y eficiente para la preparación de películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.Este recubridor de última generación utiliza tecnología de pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo, lo que garantiza una deposición precisa y uniforme de las películas.
Con sus capacidades versátiles, esta recubridora es ideal para diversas aplicaciones en los campos de la electrónica, la ciencia de los materiales y la investigación.Ya sea que necesite crear estructuras multicapa complejas o películas de una sola capa, esta recubridora garantiza resultados excepcionales con su rendimiento y confiabilidad superiores.
La función de doble objetivo permite la deposición simultánea de diferentes materiales, lo que permite la creación de intrincadas estructuras multicapa con facilidad.Esta flexibilidad abre un mundo de posibilidades para investigadores y científicos, ya que pueden explorar y experimentar con diversas combinaciones y composiciones de materiales.
Equipada con tecnología de última generación, esta recubridora garantiza una excelente calidad, uniformidad y control del espesor de la película.Su avanzado sistema de control permite un ajuste preciso de los parámetros de deposición, asegurando reproducibilidad y precisión en cada experimento o ejecución de producción.
Además de su rendimiento excepcional, esta recubridora cuenta con una interfaz fácil de usar, lo que facilita su operación y control.Su diseño intuitivo y sus completas funciones de seguridad garantizan un entorno de trabajo seguro y sin complicaciones.
Invertir en el recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo para películas delgadas ferroeléctricas multicapa es una buena elección para los profesionales que buscan una solución confiable y eficiente para sus necesidades de deposición de películas delgadas.Con sus características avanzadas, rendimiento superior y construcción de nivel profesional, esta recubridora es un activo valioso para cualquier laboratorio o instalación de investigación.
Parámetros técnicos del recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo:
nombre del producto | Recubridor por pulverización catódica con magnetrón CC de doble objetivo |
chisporroteo fuente de alimentación | Fuente de alimentación CC×2 Alimentación CC suministro: 500W |
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara: φ300 mm × 300 mm, material de la cámara: acero inoxidable Ventana de observación: φ100 mm El El método de apertura de la cavidad adopta una apertura superior, lo que facilita el cambio de objetivo |
Pulverización con magnetrón cabeza objetivo | Hay 2 cabezales de pulverización magnetrón instalados en el instrumento, y todos están equipados con una capa intermedia refrigerada por agua, que puede pasar agua de refrigeración para enfriar el material objetivo.Los dos Los cabezales de pulverización están conectados con una fuente de alimentación de CC, y el principal chisporroteo conductor |
Etapa de muestra | Muestra tamaño del portador: 140 mm de diámetro.(Se puede colocar un sustrato de 4' como máximo) La muestra El transportador se puede girar a una velocidad de: 1-20 rpm (ajustable) La más alta La temperatura de calentamiento del portamuestras es de 500 ℃ y la temperatura La precisión del control es +/- 1,0 °C. |
Controlador de flujo de gas | Allá Hay 2 medidores de flujo másico instalados dentro del instrumento, el rango es: 0-200scm |
Bomba aspiradora | Equipado Con un conjunto de sistema de bomba molecular, usando operación con un solo botón 80L/S |
Sistema de refrigeración | 16L/min. |
Voltaje | 220V 50HZ |
