| Cantidad: | |
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TN-MSP180S-DC-GU
TN
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con etapa de muestra inclinable para películas de óxido es un producto de calidad profesional diseñado para la preparación de películas de precisión.Con su tecnología avanzada y características versátiles, este recubridor es perfecto para crear películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con un diseño de escritorio compacto, este recubridor es adecuado para aplicaciones de laboratorio y de investigación.Su sistema de pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo garantiza la deposición uniforme y controlada de la película, lo que permite obtener resultados precisos y reproducibles.La etapa de muestra inclinable mejora aún más el proceso de recubrimiento al proporcionar flexibilidad en el espesor y la composición de la película.
Con este recubridor se pueden conseguir películas de óxido de alta calidad con excelente adherencia y uniformidad.Ya sea que esté realizando experimentos, desarrollando nuevos materiales o fabricando dispositivos electrónicos, esta recubridora es una herramienta confiable y eficiente que cumple con los estándares profesionales.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Etapa de muestra | Tamaño | Φ60mm | Velocidad de rotación | 0-20 ajustable |
Objetivo de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'x1 | ||
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ180mm x 150mm | Ventana de observación | Visibilidad omnidireccional |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza | Apertura método | Cubierta superior extraíble | |
Brida inferior | Incluye mecanismo de inclinación de la mesa de muestra y mecanismo de rotación | |||
Sistema de vacío | bomba mecanica | Bomba de paletas rotativa de dos etapas | Interfaz de bombeo | KF16 |
bomba molecular | bomba turbomolecular | Interfaz de bombeo | KF40 | |
Medición de vacío | Medidor de resistencia + medidor de ionización | Interfaz de escape | KF40 | |
Vacío definitivo | 1.0E-3Pa | Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba de respaldo: 1,1 L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x1 | Potencia máxima de salida | Fuente de alimentación CC 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | Dimensions | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Poder total | 2kW | |||
El recubridor por pulverización catódica con magnetrón de objetivo único de escritorio con etapa de muestra inclinable para películas de óxido es un producto de calidad profesional diseñado para la preparación de películas de precisión.Con su tecnología avanzada y características versátiles, este recubridor es perfecto para crear películas delgadas ferroeléctricas, películas conductoras y películas de aleaciones de una o varias capas.
Con un diseño de escritorio compacto, este recubridor es adecuado para aplicaciones de laboratorio y de investigación.Su sistema de pulverización catódica con magnetrón de un solo objetivo garantiza la deposición uniforme y controlada de la película, lo que permite obtener resultados precisos y reproducibles.La etapa de muestra inclinable mejora aún más el proceso de recubrimiento al proporcionar flexibilidad en el espesor y la composición de la película.
Con este recubridor se pueden conseguir películas de óxido de alta calidad con excelente adherencia y uniformidad.Ya sea que esté realizando experimentos, desarrollando nuevos materiales o fabricando dispositivos electrónicos, esta recubridora es una herramienta confiable y eficiente que cumple con los estándares profesionales.
Parámetros técnicos de la recubridora por pulverización catódica con magnetrón:
TN-MSP180S-DC-GU | ||||
Etapa de muestra | Tamaño | Φ60mm | Velocidad de rotación | 0-20 ajustable |
Objetivo de pulverización magnetrón | Cantidad | 2'x1 | ||
Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | Φ180mm x 150mm | Ventana de observación | Visibilidad omnidireccional |
Material de la cámara | Cuarzo de alta pureza | Apertura método | Cubierta superior extraíble | |
Brida inferior | Incluye mecanismo de inclinación de la mesa de muestra y mecanismo de rotación | |||
Sistema de vacío | bomba mecanica | Bomba de paletas rotativa de dos etapas | Interfaz de bombeo | KF16 |
bomba molecular | bomba turbomolecular | Interfaz de bombeo | KF40 | |
Medición de vacío | Medidor de resistencia + medidor de ionización | Interfaz de escape | KF40 | |
Vacío definitivo | 1.0E-3Pa | Fuente de alimentación | CA 220 V 50/60 Hz | |
Tasa de bombeo | Bomba de respaldo: 1,1 L/s Bomba molecular: 60L/S | |||
Configuración de energía | Cantidad | Fuente de alimentación CC x1 | Potencia máxima de salida | Fuente de alimentación CC 300W |
Otro | Suministrar Voltaje | CA 220 V, 50 Hz. | Dimensions | 500 mm x 320 mm x 620 mm |
Poder total | 2kW | |||
